[发明专利]一种蒂巴因衍生物及其制备方法和应用有效
申请号: | 202110064494.X | 申请日: | 2021-01-18 |
公开(公告)号: | CN113845526B | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
发明(设计)人: | 秦勇;宋颢;刘小宇;李文斐;周骁汉;周瑞捷;薛斐;张丹 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | C07D489/02 | 分类号: | C07D489/02 |
代理公司: | 成都玖和知识产权代理事务所(普通合伙) 51238 | 代理人: | 胡琳梅;王海权 |
地址: | 610000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 衍生物 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种蒂巴因衍生物,其特征在于,结构式如式1所示:
式中,R为二级胺保护基,所述二级胺保护基选自苯磺酰基、对甲苯磺酰基、对硝基苯磺酰基、甲基、甲酸甲酯基、叔丁氧羰基、苄基、苄氧羰基、三氟磺酰基、甲磺酰基和三甲基苯磺酰基中的一种。
2.制备如权利要求1所述的蒂巴因衍生物的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.
提供化合物9,并使其脱除羟基保护基,生成化合物10;
所述脱除羟基保护基在酸性条件下进行;
所述脱除羟基保护基所采用的脱除试剂选自乙酸、三氟乙酸、2,3-二氯-5,6-二氰基-1,4-苯醌和盐酸中的一种;
所述脱除羟基保护基所采用的反应溶剂选自N,N-二甲基甲酰胺、乙腈、四氢呋喃、二氯甲烷和乙酸中的一种;
所述脱除羟基保护基的反应温度为-10~110℃;
式中,R1为羟基保护基,所述羟基保护基选自对甲氧基苄基、苄基、乙酰基、苄氧羰基、甲氧基亚甲基、甲基、三异丙基硅醚基、三乙基硅醚基和叔丁基二苯基硅基中的一种;
S2.
所述化合物10经还原反应,生成化合物11;
所述还原反应的还原剂选自硼氢化钠、硼氢化锂、四氢铝锂和三叔丁基四氢铝锂中的一种;
所述还原反应的反应溶剂选自甲醇、乙醇、四氢呋喃和二氯甲烷中的一种或两种;
所述还原反应的反应温度为-10~40℃;
S3.
所述化合物11经环化反应,生成化合物12;
所述环化反应的环化试剂选自N,N-二甲基甲酰胺二新戊基乙缩醛、N,N-二甲基甲酰胺二甲基缩醛、N,N-二甲基甲酰胺二乙基缩醛、N,N-二甲基甲酰胺二异丙基缩醛、硫酸、盐酸和磷酸中的一种;
所述环化反应的反应溶剂选自N,N-二甲基甲酰胺、乙腈、四氢呋喃、二氯甲烷和1,4-二氧六环中的一种;
所述环化反应的反应温度为0~80℃;
S4.
所述化合物12经酸水解反应,生成所述蒂巴因衍生物1;
所述酸选自盐酸、对甲苯磺酸、樟脑磺酸、醋酸和三氟醋酸中的至少一种;
所述酸水解反应的反应溶剂选自四氢呋喃、乙二醇二甲醚、甲醇、二氯甲烷和水中的一种或两种;
所述酸水解反应的反应温度为0~60℃。
3.权利要求1所述的蒂巴因衍生物在制备可待因中的应用。
4.根据权利要求3所述的应用,其特征在于,制备可待因的方法,包括以下步骤:
S1.
使所述蒂巴因衍生物1脱除二级胺保护基,同时还原羰基,生成化合物2;
S2.
所述化合物2经还原胺甲基化反应,生成化合物3;
S3.
所述化合物3经催化氢化反应,生成化合物4;
S4.
所述化合物4经氧化反应,生成化合物5;
S5.
使所述化合物5脱除甲氧基,生成化合物6;
S6.
所述化合物6经羰基还原反应,生成可待因7。
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