[发明专利]投射光学系统和投影仪在审

专利信息
申请号: 202110074090.9 申请日: 2021-01-20
公开(公告)号: CN113156746A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 守国荣时 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G03B21/28;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李庆泽;邓毅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投射 光学系统 投影仪
【权利要求书】:

1.一种投射光学系统,其特征在于,其具有:

第1光学系统,其具有多个透镜和偏转元件;以及

第2光学系统,其具备光学元件,配置于所述第1光学系统的放大侧,所述光学元件具有凹形状的反射面,

所述偏转元件配置在所述第1光学系统中相邻的所述透镜彼此之间设置的多个空气间隔中的、所述第1光学系统的轴上面间距离最大的空气间隔中,

所述第1光学系统具有相对于所述偏转元件配置于缩小侧的第1部、以及相对于所述偏转元件配置于所述放大侧的第2部,

作为所述第1部的光轴的第1光轴部分和作为所述第2部的光轴的第2光轴部分交叉,

所述第2部具有3个以上的透镜,

所述第2部的长度比所述第1部的长度短。

2.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,

所述反射面是非球面。

3.根据权利要求1或2所述的投射光学系统,其特征在于,

所述光学元件是反射镜。

4.根据权利要求1或2所述的投射光学系统,其特征在于,

所述光学元件具有第1透过面、配置于所述第1透过面的所述放大侧的所述反射面、以及配置于所述反射面的所述放大侧的第2透过面。

5.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,

所述第2透过面具有向所述放大侧突出的凸形状。

6.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,

所述第1透过面具有向所述缩小侧突出的凸形状。

7.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,

所述第2透过面是非球面。

8.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,

所述第1透过面是非球面。

9.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,

所述第1透过面和所述反射面相对于所述反射面的光轴配置于一侧,

所述第2透过面相对于所述反射面的所述光轴配置于另一侧。

10.根据权利要求9所述的投射光学系统,其特征在于,

所述第1透过面、所述反射面和所述第2透过面分别具有以所述反射面的所述光轴为中心的旋转对称的形状。

11.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,

X轴、Y轴和Z轴是彼此正交的3轴,X轴方向是放大侧成像面的宽度方向,Y轴方向是所述放大侧成像面的上下方向,Z轴方向是与所述放大侧成像面垂直的方向,

连接上侧交点和下侧交点的光瞳在包含所述反射面的光轴和所述Y轴的YZ平面上相对于与所述反射面的所述光轴垂直的假想垂直线倾斜,

所述上侧交点是所述第2透过面的有效光线范围内通过所述Y轴方向的上端的上端光束中的上周边光线和所述有效光线范围内通过所述Y轴方向的下端的下端光束中的上周边光线在所述YZ平面上交叉的交点,

所述下侧交点是所述上端光束中的下周边光线和所述下端光束中的下周边光线在所述YZ平面上交叉的交点。

12.根据权利要求4所述的投射光学系统,其特征在于,

相对于所述反射面在所述缩小侧形成中间像。

13.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,

所述第1光轴部分和所述第2光轴部分所成的角度为90°以下。

14.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,

所述第2部具有分别在两面具有非球面形状的第1透镜和第2透镜,

所述第1透镜配置于所述第2透镜的所述放大侧,

所述第1透镜和所述第2透镜中的至少一方在沿着所述第1光轴部分的方向上移动。

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