[发明专利]分析装置以及分析装置的控制方法

权利要求书

1.一种分析装置，进行试样表面的观察和分析，所述分析装置具备：

照射装置，其向所述试样的表面照射电子射线；

多个检测器，所述多个检测器分别检测从所述试样的表面发出的多个检测信号；

显示部，其显示与所述多个检测信号分别对应的多个观察像；以及

控制部，其控制所述照射装置和所述显示部，

其中，所述分析装置具有将所述多个观察像中的至少2个观察像同时排列显示在所述显示部中的同时显示模式，所述分析装置还具备存储部，所述存储部用于保存包含所述至少2个观察像的显示条件的观察条件数据，

在所述同时显示模式下，所述控制部基于保存在所述存储部中的所述观察条件数据，使所述至少2个观察像显示在所述显示部中。

2.根据权利要求1所述的分析装置，其中，

还具备操作部，所述操作部用于受理与所述多个观察像的观察条件有关的设定，

当在所述同时显示模式下所述操作部受理了与所述至少2个观察像的观察条件有关的设定的情况下，所述控制部生成所述至少2个观察像的所述观察条件数据并保存到所述存储部中。

3.根据权利要求2所述的分析装置，其中，

所述控制部对所述至少2个观察像的观察条件数据备注与所述试样的观察目标相关联的信息来保存到所述存储部中。

4.根据权利要求2或3所述的分析装置，其中，

在所述操作部受理了所述同时显示模式的设定的情况下，

所述控制部使保存在所述存储部中的所述观察条件数据的列表显示在所述显示部中，

在所述操作部受理了从所述列表中选择1个观察条件数据的操作时，所述控制部基于所选择出的所述观察条件数据，使所述至少2个观察像显示在所述显示部中。

5.根据权利要求1所述的分析装置，其中，

所述至少2个以上的观察像的显示条件包括与所述至少2个观察像在所述显示部中的布局有关的条件以及与所述至少2个观察像对应的至少2个检测信号的显示条件。

6.根据权利要求1所述的分析装置，其中，

所述观察条件数据还包含所述电子射线的照射条件和所述电子射线的扫描条件。

7.一种分析装置的控制方法，所述分析装置进行试样表面的观察和分析，

所述分析装置包括：

照射装置，其向所述试样的表面照射电子射线；

多个检测器，所述多个检测器分别检测从所述试样的表面发出的多个检测信号；以及

显示部，其显示与所述多个检测信号分别对应的多个观察像，

所述分析装置具有将所述多个观察像中的至少2个观察像同时排列显示在所述显示部中的同时显示模式，

所述控制方法包括以下步骤：

将包含所述至少2个以上的观察像的显示条件的观察条件数据保存到存储部中；以及

在所述同时显示模式下，基于保存在所述存储部中的所述观察条件数据，使所述至少2个观察像显示在所述显示部中。

8.根据权利要求7所述的分析装置的控制方法，其中，

还包括以下步骤：当在所述同时显示模式下受理了与所述至少2个观察像的观察条件有关的设定的情况下，生成至少2个观察像的观察条件数据并保存到所述存储部中。