[发明专利]分析装置以及分析装置的控制方法

说明书

本发明提供一种能够提高分析作业的效率的分析装置以及分析装置的控制方法。分析装置具备：照射装置，其向试样的表面照射电子射线；多个检测器，所述多个检测器分别检测从试样的表面发出的多个检测信号；显示部，其显示与多个检测信号分别对应的多个观察像；以及控制部，其控制照射装置和显示部。分析装置具有将多个观察像中的至少2个观察像同时排列地显示在显示部中的同时显示模式。分析装置还具备存储部，该存储部用于保存包含至少2个观察像的显示条件的观察条件数据。在同时显示模式下，控制部基于保存在存储部中的观察条件数据，使至少2个观察像显示在显示部中。

技术领域

本公开涉及一种分析装置以及分析装置的控制方法。

背景技术

在日本特开平8-320298号公报(专利文献1)中公开了一种用于显示图像(观察像)的显示方法，该图像(观察像)表示通过由电子显微分析仪等X射线分析装置进行试样的表面分析而得到的试样表面的凹凸以及元素分析的二维信息。在专利文献1中，构成为将在1个表面分析处理中得到的同一分析区域的多个观察像叠加地显示。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平8-320298号公报

发明内容

发明要解决的问题

通过在同一画面上同时显示多个观察像，分析者能够容易地比较同一分析区域的多个观察像。由此，分析者能够适当且高效地决定用于进行更详细的分析的分析条件。

另一方面，分析者需要进行用于设定观察条件的作业，以使多个观察像各自成为适合于观察目标的图像。在观察条件中包括向试样照射的电子射线的照射条件和扫描条件、以及各图像的显示条件等多个条件。分析者一边参照显示部中显示的多个图像的每个图像，一边进行设定这些多个条件的作业。每当进行多个图像的同时显示时都需要进行该观察条件的设定作业，因此担心使分析作业的效率降低。

本公开是为了解决上述问题而完成的，本公开的目的在于提供一种能够提高分析作业的效率的分析装置以及分析装置的控制方法。

用于解决问题的方案

本公开的一个方式所涉及的分析装置是一种进行试样表面的观察和分析的分析装置，其具备：照射装置，其向试样的表面照射电子射线；多个检测器，所述多个检测器分别检测从试样的表面发出的多个检测信号；显示部，其显示与多个检测信号分别对应的多个观察像；以及控制部，其控制照射装置和显示部。分析装置具有将多个观察像中的至少2个观察像同时排列地显示在显示部中的同时显示模式。分析装置还具备存储部，该存储部用于保存包含至少2个观察像的显示条件的观察条件数据。在同时显示模式下，控制部基于保存在存储部中的观察条件数据，使至少2个观察像显示在显示部中。

发明的效果

根据本公开，能够提供一种能够提高分析作业的效率的分析装置以及分析装置的控制方法。

附图说明

图1是作为实施方式所涉及的分析装置的一例的电子探针显微分析仪的整体结构图。

图2是示出同时显示模式下的显示部的显示画面的一例的图。

图3是示出保存在数据库中的观察条件列表的概要图。

图4是用于说明设定EPMA的同时显示模式的观察条件的处理的过程的流程图。

图5是用于说明观察条件数据的结构例的图。

图6是示出图4的S06和S08的处理的详细情况的流程图。