[发明专利]支撑治具及清洗设备

说明书

本发明公开了一种支撑治具及清洗设备。支撑治具用于光罩清洗时承载光罩，支撑治具包括载具本体，载具本体具有相对的上表面和下表面，载具本体的中部设有：第一通槽，第一通槽用于容纳光罩，且收容于第一通槽内的光罩的上表面高于载具本体的上表面；多个第二通槽，环绕设于第一通槽的外侧，至少部分第二通槽的截面积从上表面往下表面的方向逐渐增大；支撑部，用于支撑光罩，设于第一通槽的槽壁上并延伸至第一通槽内。本发明的支撑治具能够提升光罩的清洗效果。

技术领域

本发明涉及光罩清洗技术领域，尤其涉及一种支撑治具及清洗设备。

背景技术

光罩，也叫光掩膜版，英文名字叫Mask，是一种由石英为材料制成的，用在半导体光刻制程中的母版。

光罩在使用过程中由于受到微粒的粘附而出现脏污，在光刻时材料层上则无法形成正确的图案，影响半导体的制造良率，因此需要定期对光罩进行清洗。

相关技术中，对光罩进行清洗时，将光罩放置于治具上，治具放置于转盘上高速旋转，水花冲击到光罩表面后会向四周散开，散开的水花冲击到夹具边缘时会反溅回来，部分水花会再次落到光罩上，对光罩形成二次污染。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种支撑治具，能够提升光罩清洗时的良率。

本发明还提出一种具有上述支撑治具的清洗设备。

根据本发明的第一方面实施例的支撑治具，支撑治具，用于光罩清洗时承载光罩，包括载具本体，所述载具本体具有相对的上表面和下表面，所述载具本体的中部设有：第一通槽，所述第一通槽用于容纳所述光罩，且收容于所述第一通槽内的所述光罩的上表面高于所述载具本体的上表面；多个第二通槽，环绕设于所述第一通槽的外侧，至少部分所述第二通槽的截面积从所述上表面往所述下表面的方向逐渐增大；支撑部，用于支撑所述光罩，设于所述第一通槽的槽壁上并延伸至所述第一通槽内。

根据本发明实施例的支撑治具，至少具有如下有益效果：在第一通槽的外侧环绕设有多个第二通槽，且至少部分第二通槽的截面积从上表面往下表面的方向逐渐增大，即第二通槽的的至少部分槽壁从上表面的方向往下表面的方向是倾斜设置的，当光罩放置于支撑治具上进行清洗时，冲出的水花冲击到光罩上再被光罩散射至第二通槽的槽壁上时，水花从倾斜的槽壁上往支撑治具的下表面的方向滑落，避免反溅到光罩上，从而提升了清洗效果。

根据本发明的一些实施例，各所述第二通槽和所述第一通槽相贯通。

根据本发明的一些实施例，所述第二通槽的槽壁从所述上表面往所述下表面的方向依次包括第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁呈竖直状，所述第二侧壁呈倾斜状。

根据本发明的一些实施例，所述第二侧壁倾斜的角度介于40°-50°之间。

根据本发明的一些实施例，所述第一通槽的槽壁上设有多个相互独立的所述支撑部。

根据本发明的一些实施例，所述支撑部的顶角和所述载具本体的连接处设有避让孔。

根据本发明的一些实施例，所述支撑部上形成凸起，所述凸起用于支撑所述光罩。

根据本发明的一些实施例，所述凸起的截面呈弧形。

根据本发明的一些实施例，所述凸起的高度介于0.5-1.5mm之间。

根据本发明的第二方面实施例的清洗设备，包括如上述的支撑治具

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明做进一步的说明，其中：

图1为本发明实施例的支撑治具的上表面的结构示意图；