[发明专利]投射光学系统和投影仪有效
申请号: | 202110087257.5 | 申请日: | 2021-01-22 |
公开(公告)号: | CN113176698B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 柳泽博隆 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李庆泽;邓毅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投射 光学系统 投影仪 | ||
1.一种投射光学系统,其特征在于,其具有:
第1光学系统;
第2光学系统,其具有第1光学元件和第2光学元件,配置于所述第1光学系统的放大侧;以及
配置机构,其选择性地将所述第1光学元件和所述第2光学元件中的一方配置于所述第1光学系统的第1光轴上,
所述第1光学元件具有第1入射面、配置于所述第1入射面的所述放大侧的第1反射面、以及配置于所述第1反射面的所述放大侧的第1射出面,
所述第2光学元件具有第2入射面、配置于所述第2入射面的所述放大侧的第2反射面、以及配置于所述第2反射面的所述放大侧的第2射出面,
在所述第2光学系统配置有所述第1光学元件的第1配置中的第1投射角度与在所述第2光学系统配置有所述第2光学元件的第2配置中的第2投射角度不同。
2.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第2光学元件在所述第2反射面与所述第2射出面之间的光路上具有第3反射面。
3.根据权利要求2所述的投射光学系统,其特征在于,
在所述第2光学系统配置有所述第1光学元件的第1配置中从所述第1射出面投射的光束的第1投射方向与在所述第2光学系统配置有所述第2光学元件的第2配置中从所述第2射出面投射的光束的第2投射方向不同。
4.根据权利要求3所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第2投射方向是在沿着所述第1光学系统的所述第1光轴的方向上与所述第1投射方向相反的方向。
5.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1光学系统在所述第2光学系统配置有所述第1光学元件的第1配置和所述第2光学系统配置有所述第2光学元件的第2配置之间是公共的。
6.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述配置机构在所述第2光学系统配置有所述第1光学元件的第1配置中,使所述第1光学系统与所述第1光学元件的轴上面间距离成为第1距离,在所述第2光学系统配置有所述第2光学元件的第2配置中,使所述第1光学系统与所述第2光学元件的轴上面间距离成为与所述第1距离不同的第2距离,
所述轴上面间距离是所述第1光学系统的光轴上的面间距离。
7.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1反射面和所述第2反射面的形状不同。
8.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1射出面和所述第2射出面的形状不同。
9.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1入射面和所述第2入射面的形状不同。
10.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1光学系统具有配置于所述第1光学系统的最靠所述放大侧的第1透镜、以及配置于所述第1透镜的缩小侧的第2透镜,
所述第1透镜与所述第2透镜之间的距离在所述第2光学系统配置有所述第1光学元件的第1配置与所述第2光学系统配置有所述第2光学元件的第2配置之间不同。
11.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1反射面为凹形状。
12.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第2反射面为凹形状。
13.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第1射出面为向放大侧突出的凸形状。
14.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第2射出面为向放大侧突出的凸形状。
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