[发明专利]投射光学系统和投影仪有效

专利信息
申请号: 202110087257.5 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN113176698B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 柳泽博隆 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李庆泽;邓毅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投射 光学系统 投影仪
【说明书】:

投射光学系统和投影仪,能够缩短投射距离。投射光学系统具有:第1光学系统;第2光学系统,其具有第1光学元件和第2光学元件,配置于第1光学系统的放大侧;以及配置机构,其选择性地将第1光学元件和第2光学元件中的一方配置于第1光学系统的第1光轴上。第1光学元件具有第1入射面、配置于第1入射面的放大侧的第1反射面、以及配置于第1反射面的放大侧的第1射出面。第2光学元件具有第2入射面、配置于第2入射面的放大侧的第2反射面、以及配置于第2反射面的放大侧的第2射出面。

技术领域

本发明涉及投射光学系统和投影仪。

背景技术

专利文献1记载了通过投射光学系统放大投射由图像形成部形成的投射图像的投影仪。该文献的投射光学系统从缩小侧朝向放大侧依次由第1光学系统和第2光学系统构成。第1光学系统具有折射光学系统。第2光学系统由具有凹形状的反射面的反射镜构成。图像形成部具有光源和光阀。图像形成部在投射光学系统的缩小侧成像面形成投射图像。投射光学系统在第1光学系统与反射面之间形成中间像,向配置于放大侧成像面的屏幕投射最终像。

专利文献1:日本特开2010-20344号公报

发明内容

发明要解决的课题

投射光学系统和投影仪被要求缩短投射距离。但是,在使用专利文献1的投射光学系统进行投射规格的变更的情况下,无法容易地变更投射规格,存在投射规格的变更花费成本的课题。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题,本发明的投射光学系统具有:第1光学系统;第2光学系统,其具有第1光学元件和第2光学元件,配置于所述第1光学系统的放大侧;以及配置机构,其选择性地将所述第1光学元件和所述第2光学元件中的一方配置于所述第1光学系统的第1光轴上,所述第1光学元件具有第1入射面、配置于所述第1入射面的所述放大侧的第1反射面、以及配置于所述第1反射面的所述放大侧的第1射出面,所述第2光学元件具有第2入射面、配置于所述第2入射面的所述放大侧的第2反射面、以及配置于所述第2反射面的所述放大侧的第2射出面。

接着,本发明的投影仪具有:上述投射光学系统;以及图像形成部,其在所述投射光学系统的缩小侧成像面形成投射图像。

附图说明

图1是具有投射光学系统的投影仪的概略结构图。

图2是投射光学系统具有的配置机构的说明图。

图3是示意地示出实施例1的第1方式的投射光学系统的整体的光线图。

图4是实施例1的投射光学系统的第1方式的光线图。

图5是实施例1的投射光学系统的第1方式的第2光学系统的光线图。

图6是示意地示出实施例1的第2方式的投射光学系统的整体的光线图。

图7是实施例1的投射光学系统的第2方式的光线图。

图8是实施例1的投射光学系统的第2方式的第2光学系统的光线图。

图9是实施例1的第1光学元件和第2光学元件的形状的差异的说明图。

图10是示出实施例1的第1方式的投射光学系统的放大侧的MTF的图。

图11是示出实施例1的第2方式的投射光学系统的放大侧的MTF的图。

图12是示意地示出实施例2的第1方式的投射光学系统的整体的光线图。

图13是实施例2的投射光学系统的第1方式的光线图。

图14是实施例2的投射光学系统的第1方式的第2光学系统的光线图。

图15是示意地示出实施例2的第2方式的投射光学系统的整体的光线图。

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