[发明专利]投射光学系统和投影仪

权利要求书

1.一种投射光学系统，其特征在于，该投射光学系统具有：

第1光学系统；以及

第2光学系统，其具有光学元件并且配置在所述第1光学系统的放大侧，

所述光学元件从缩小侧到放大侧依次仅具有第1透过面、第1反射面、第2反射面以及第2透过面，在所述第1透过面与所述第2透过面之间的光路中仅具有所述第1反射面和所述第2反射面，

所述第2反射面具有凹形状，

所述第1光学系统的第1光轴与所述第2反射面的第2光轴交叉，

所述第1透过面和所述第1反射面相对于所述第1光轴位于一侧，

所述第2反射面相对于所述第1光轴位于另一侧。

2.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第1透过面、所述第1反射面以及所述第2反射面相对于所述第2光轴位于一侧，

所述第2透过面相对于所述第2光轴位于另一侧。

3.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第1反射面将通过了所述第1透过面的光束向与所述第1光轴交叉的方向反射。

4.根据权利要求3所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第1反射面将通过了所述第1透过面的光束以90°反射。

5.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第1反射面是平面镜。

6.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第1光学系统具有偏转元件和多个透镜。

7.根据权利要求6所述的投射光学系统，其特征在于，

所述偏转元件配置于在所述第1光学系统中的相邻的所述透镜彼此之间设置的多个空气间隔中的、所述第1光轴上的轴上面间距离最大的空气间隔，

所述第1光学系统具有相对于所述偏转元件配置在缩小侧的第1部和相对于所述偏转元件配置在所述放大侧的第2部。

8.根据权利要求7所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第1部具有正屈光力，

所述第2部具有负屈光力。

9.根据权利要求7或8所述的投射光学系统，其特征在于，

作为所述第2部的全长的第2长度比作为所述第1部的全长的第1长度短。

10.根据权利要求6所述的投射光学系统，其特征在于，

所述偏转元件是平面镜。

11.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

缩小侧成像面相对于放大侧成像面交叉。

12.根据权利要求7所述的投射光学系统，其特征在于，

缩小侧成像面相对于放大侧成像面平行。

13.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第2透过面呈向所述放大侧突出的凸形状。

14.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第1透过面呈向缩小侧突出的凸形状。

15.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第2反射面为非球面。

16.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第2透过面是非球面。

17.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，

所述第1透过面是非球面。