[发明专利]投射光学系统和投影仪有效

专利信息
申请号: 202110088018.1 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN113176699B 公开(公告)日: 2023-02-21
发明(设计)人: 守国荣时 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G03B21/28;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投射 光学系统 投影仪
【说明书】:

提供投射光学系统和投影仪,能够缩短投射距离。投射光学系统具有:第1光学系统;以及第2光学系统,其具有光学元件并且配置在第1光学系统的放大侧。光学元件具有第1透过面、配置在第1透过面的放大侧的第1反射面、配置在第1反射面的放大侧的第2反射面以及配置在第2反射面的放大侧的第2透过面。第2反射面具有凹形状。第1光学系统的第1光轴与第2反射面的第2光轴交叉。

技术领域

本发明涉及投射光学系统和投影仪。

背景技术

专利文献1记载了通过投射光学系统放大投射由图像形成部形成的投射图像的投影仪。该文献的投射光学系统从缩小侧朝向放大侧依次由第1光学系统和第2光学系统构成。第1光学系统具备具有多个透镜的折射光学系统。第2光学系统由具有凹形状的反射面的反射镜构成。图像形成部具有光源和光阀。图像形成部在投射光学系统的缩小侧成像面形成投射图像。投射光学系统在第1光学系统与反射面之间形成中间像,向配置于放大侧成像面的屏幕投射最终像。

专利文献1:日本特开2010-20344号公报

投射光学系统和投影仪被要求缩短投射距离。

发明内容

为了解决上述课题,本发明的投射光学系统具有:第1光学系统;以及第2光学系统,其具有光学元件并且配置在所述第1光学系统的放大侧。所述光学元件具有第1透过面、配置在所述第1透过面的所述放大侧的第1反射面、配置在所述第1反射面的所述放大侧的第2反射面以及配置在所述第2反射面的所述放大侧的第2透过面。所述第2反射面具有凹形状。所述第1光学系统的第1光轴与所述第2反射面的第2光轴交叉。

接着,本发明的投影仪具有:上述投射光学系统;以及图像形成部,其在所述投射光学系统的缩小侧成像面形成投射图像。

附图说明

图1是具有投射光学系统的投影仪的概略结构图。

图2是示意性地示出实施例1的投射光学系统的整体的光线图。

图3是实施例1的投射光学系统的光线图。

图4是实施例1的投射光学系统的第2光学系统的光线图。

图5是实施例1的投射光学系统的光学元件的立体图。

图6是示意性地示出实施例1的投射光学系统的光轴的说明图。

图7是示出实施例1的投射光学系统的放大侧的MTF的图。

图8是实施例1的投射光学系统的点列图(spot diagram)。

图9是示意性地示出实施例2的投射光学系统的整体的光线图。

图10是实施例2的投射光学系统的光线图。

图11是从上方观察实施例2的投射光学系统时的光线图。

图12是实施例2的投射光学系统的光学元件的立体图。

图13是示意性地示出实施例2的投射光学系统的光轴的说明图。

图14是示出实施例2的投射光学系统的放大侧的MTF的图。

图15是实施例2的投射光学系统的点列图。

图16是示意性地示出实施例3的投射光学系统的整体的光线图。

图17是实施例3的投射光学系统的光线图。

图18是示意性地示出实施例3的投射光学系统的光轴的说明图。

图19是示出实施例3的投射光学系统的放大侧的MTF的图。

图20是实施例3的投射光学系统的点列图。

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