[发明专利]一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉

权利要求书

1.一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉，其特征在于，包括主体(1)、排气管(2)、密封固定机构和泄压机构，所述排气管(2)设置在主体(1)上，所述排气管(2)与主体(1)内部连通，所述密封固定机构设置在排气管(2)上，所述泄压机构设置在排气管(2)内；

所述密封固定机构包括固定环(3)和密封固定组件，所述固定环(3)套设在排气管(2)上，所述固定管与排气管(2)滑动连接，所述密封固定组件包括两个密封固定单元，两个密封固定单元分别设置在固定环(3)的两端，所述密封固定单元包括固定块(4)、推杆(5)、密封板(6)、推块(7)和第一弹簧(8)，所述固定块(4)设置在固定环(3)上，所述推杆(5)穿过固定块(4)，所述推杆(5)与固定块(4)滑动连接，所述密封板(6)和推块(7)分别设置在推杆(5)的两端，所述密封板(6)的截面为弧形，所述密封板(6)的弧形截面的圆心位于排气管(2)的轴线上，所述排气管(2)上设有环形槽，所述密封板(6)远离推杆(5)的一端位于环形槽内，两个密封固定单元的两个密封板(6)贴合，所述第一弹簧(8)套设在推杆(5)上，所述第一弹簧(8)位于密封板(6)和推块(7)之间，所述第一弹簧(8)的一端与密封板(6)连接，所述第一弹簧(8)的另一端与推块(7)连接；

所述泄压机构包括泄压组件和过滤组件，所述泄压组件包括壳体(9)、密封球(10)、限位单元和密封单元，所述壳体(9)设置在排气管(2)内，所述壳体(9)底部设有若干排气孔，所述限位单元设置在壳体(9)内，所述限位单元包括限位杆(11)、限位板(12)和第二弹簧(13)，所述限位杆(11)设置在壳体(9)内，所述限位板(12)套设在限位杆(11)上，所述限位板(12)与限位杆(11)滑动连接，所述密封球(10)设置在限位板(12)上，所述限位球位于壳体(9)顶部，所述限位球与壳体(9)密封连接，所述第二弹簧(13)套设在限位杆(11)上，所述第二弹簧(13)的一端与壳体(9)底部连接，所述第二弹簧(13)的另一端与限位板(12)连接，所述密封单元包括密封圈(14)和鼓气单元，所述密封圈(14)设置在壳体(9)顶部，所述密封圈(14)套设在密封球(10)上，所述密封圈(14)与密封球(10)密封连接，所述鼓气单元包括套管(15)、活塞杆(16)、第三弹簧(17)和气管(18)，所述套管(15)设置在壳体(9)内，所述活塞杆(16)的一端位于套管(15)内，所述活塞杆(16)的另一端伸出套管(15)外与限位板(12)连接，所述活塞杆(16)的活塞与套管(15)密封连接，所述套管(15)通过气管(18)与密封圈(14)内部连通，所述第三弹簧(17)套设在活塞杆(16)上，所述第三弹簧(17)位于套管(15)内，所述第三弹簧(17)的一端与套管(15)连接，所述第三弹簧(17)的另一端与活塞杆(16)的活塞连接，所述过滤组件包括滤网(19)和回收盒(20)，所述滤网(19)设置在排气管(2)内，所述滤网(19)与密封球(10)抵靠，所述回收盒(20)设置在排气管(2)上，所述回收盒(20)位于滤网(19)远离壳体(9)的一侧。

2.如权利要求1所述的可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉，其特征在于，其中一个密封板(6)上设有密封条(21)，所述密封条(21)有两个，两个密封条(21)分别设置在密封板(6)的两端，另一个密封板(6)上设有密封槽，所述密封槽有两个，两个密封槽分别与两个密封条(21)对应设置，所述密封条(21)位于密封槽内，所述密封条(21)与密封槽密封连接。

3.如权利要求1所述的可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉，其特征在于，所述限位杆(11)有两个，两个限位杆(11)分别设置在限位板(12)的两端，所述第二弹簧(13)有两个，两个第二弹簧(13)分别套设在两个限位杆(11)上。

4.如权利要求1所述的可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉，其特征在于，所述回收盒(20)上设有盖板(22)，所述盖板(22)与回收盒(20)密封连接。

5.如权利要求4所述的可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉，其特征在于，所述回收盒(20)底部倾斜设置。