[发明专利]一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉在审

专利信息
申请号: 202110091676.6 申请日: 2021-01-23
公开(公告)号: CN112678828A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 董赵卜 申请(专利权)人: 董赵卜
主分类号: C01B33/025 分类号: C01B33/025
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 043800 山西省*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 自动 用于 多晶 生产 还原
【说明书】:

发明涉及一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉,包括主体、排气管、密封固定机构和泄压机构,所述密封固定机构设置在排气管上,所述泄压机构设置在排气管内,该可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉,通过密封固定机构实现排气管的固定和密封,通过泄压机构进行排气泄压,与现有的固定机构相比,该机构不仅对排气管进行夹紧固定,同时对排气管与主体的连接处进行密封,提高了实用性,与现有的采用气压表和电磁阀进行泄压的方式相比,该泄压机构采用纯机械结构,提高了装置的稳定性和使用寿命,同时该机构可对主体内的空气进行过滤,避免灰尘堵塞泄压组件,且通过泄压机构的运行,对滤网进行敲击,从而避免滤网堵塞,实现更好的过滤效果。

技术领域

本发明涉及一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉。

背景技术

多晶硅,是单质硅的一种形态,熔融的单质硅在过冷条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则这些晶粒结合起来,就结晶成多晶硅,被广泛应用于太阳电池、光伏板等产业。

在生产中一般将硅石用炭在电炉中还原二氧化硅可得晶体硅,再次过程中,会产生一氧化碳气体,从而使得炉体空气压强增大,当压力过大时,则会产生炸炉的危险,从而需要对炉体进行排气泄压,现有的泄压方式一般通过气压表和电磁阀进行气压控制,采用电子元件稳定性较低,使用寿命不高,同时现有的排气管一般通过焊接的方式进行固定,安装起来较为不便。

发明内容

本发明要解决的技术问题是:为了克服现有技术的不足,提供一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种可自动泄压的用于多晶硅生产的还原炉,包括主体、排气管、密封固定机构和泄压机构,所述排气管设置在主体上,所述排气管与主体内部连通,所述密封固定机构设置在排气管上,所述泄压机构设置在排气管内;

所述密封固定机构包括固定环和密封固定组件,所述固定环套设在排气管上,所述固定管与排气管滑动连接,所述密封固定组件包括两个密封固定单元,两个密封固定单元分别设置在固定环的两端,所述密封固定单元包括固定块、推杆、密封板、推块和第一弹簧,所述固定块设置在固定环上,所述推杆穿过固定块,所述推杆与固定块滑动连接,所述密封板和推块分别设置在推杆的两端,所述密封板的截面为弧形,所述密封板的弧形截面的圆心位于排气管的轴线上,所述排气管上设有环形槽,所述密封板远离推杆的一端位于环形槽内,两个密封固定单元的两个密封板贴合,所述第一弹簧套设在推杆上,所述第一弹簧位于密封板和推块之间,所述第一弹簧的一端与密封板连接,所述第一弹簧的另一端与推块连接;

所述泄压机构包括泄压组件和过滤组件,所述泄压组件包括壳体、密封球、限位单元和密封单元,所述壳体设置在排气管内,所述壳体底部设有若干排气孔,所述限位单元设置在壳体内,所述限位单元包括限位杆、限位板和第二弹簧,所述限位杆设置在壳体内,所述限位板套设在限位杆上,所述限位板与限位杆滑动连接,所述密封球设置在限位板上,所述限位球位于壳体顶部,所述限位球与壳体密封连接,所述第二弹簧套设在限位杆上,所述第二弹簧的一端与壳体底部连接,所述第二弹簧的另一端与限位板连接,所述密封单元包括密封圈和鼓气单元,所述密封圈设置在壳体顶部,所述密封圈套设在密封球上,所述密封圈与密封球密封连接,所述鼓气单元包括套管、活塞杆、第三弹簧和气管,所述套管设置在壳体内,所述活塞杆的一端位于套管内,所述活塞杆的另一端伸出套管外与限位板连接,所述活塞杆的活塞与套管密封连接,所述套管通过气管与密封圈内部连通,所述第三弹簧套设在活塞杆上,所述第三弹簧位于套管内,所述第三弹簧的一端与套管连接,所述第三弹簧的另一端与活塞杆的活塞连接,所述过滤组件包括滤网和回收盒,所述滤网设置在排气管内,所述滤网与密封球抵靠,所述回收盒设置在排气管上,所述回收盒位于滤网远离壳体的一侧。

为了实现更好的密封效果,其中一个密封板上设有密封条,所述密封条有两个,两个密封条分别设置在密封板的两端,另一个密封板上设有密封槽,所述密封槽有两个,两个密封槽分别与两个密封条对应设置,所述密封条位于密封槽内,所述密封条与密封槽密封连接。

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