[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202110093842.6 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN113161394A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 王森;贾立;刘斌;冮明琪;秦少杰;杨鸣;鲍建东;王伟;周鑫 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56;H01L21/77
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 陶丽;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,包括柔性基底、设置在所述柔性基底上的驱动结构层、设置在所述驱动结构层上的发光元件以及设置在所述发光元件上的封装层,所述柔性基底包括第一柔性基底层、设置在所述第一柔性基底层上的第一连接层以及设置在所述第一连接层上的第二柔性基底层,其中:

所述第一连接层包括至少一个第一过孔,所述第一柔性基底层包括至少一个与所述第一过孔对应设置的第一凹槽,所述第一过孔与所述第一凹槽相互贯通,且所述第一凹槽在所述第一柔性基底层上的正投影,包含所述第一过孔在所述第一柔性基底层上的正投影。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一凹槽靠近所述第一过孔一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影小于或等于所述第一凹槽远离所述第一过孔一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影。

3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在垂直于所述显示基板的方向,所述第一过孔包括远离所述第一凹槽一侧的第一表面、靠近所述第一凹槽一侧且与所述第一表面相对的第二表面以及设置在所述第一表面和第二表面之间的第一侧面和第二侧面;

所述第一凹槽包括与所述第二表面部分重合的第三表面、与所述第三表面相对的第四表面以及设置在所述第三表面和第四表面之间的第三侧面和第四侧面,所述第一侧面和第三侧面分别位于所述第一过孔和第一凹槽的一侧,所述第二侧面和第四侧面分别位于所述第一过孔和第一凹槽的另一侧;

所述第一过孔的第一侧面和与该所述第一过孔对应的所述第一凹槽的第三侧面之间的距离为0.4微米至0.6微米;

所述第一过孔的第二侧面和与该所述第一过孔对应的所述第一凹槽的第四侧面之间的距离为0.4微米至0.6微米。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一柔性基底层和所述第二柔性基底层的材料相同,所述第一柔性基底层或所述第二柔性基底层的材料包括:聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚苯硫醚及聚芳酯中的一种或多种的组合。

5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在平行于所述显示基板的方向,所述第一过孔的形状包括以下任意一种或多种:圆形、方形、菱形、平行四边形、五边形、六边形。

6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在垂直于所述显示基板的方向,所述第一过孔的宽度为5至20微米。

7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在垂直于所述显示基板的方向,所述第一凹槽21的高度为1微米至2微米。

8.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,还包括第二连接层和第三柔性基底层,所述第二连接层包括至少一个第二过孔,所述第二柔性基底层包括至少一个第二凹槽,所述第二过孔与所述第二凹槽相互贯通,所述第二凹槽在所述第一柔性基底层上的正投影,包含所述第二过孔在所述第一柔性基底层上的正投影;所述第二凹槽在所述第一柔性基底层上的正投影与所述第一凹槽在所述第一柔性基底层上的正投影不重叠。

9.一种显示装置,包括如权利要求1至权利要求8任一项所述的显示基板。

10.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:

在刚性衬底基板上依次形成第一柔性基底层和第一连接层,所述第一连接层上设置有第一过孔;

对所述第一柔性基底层进行处理,以形成与所述第一过孔对应的第一凹槽,所述第一过孔与所述第一凹槽相互贯通,且所述第一凹槽在所述第一柔性基底层上的正投影,包含所述第一过孔在所述第一柔性基底层上的正投影;

在所述第一连接层远离所述第一柔性基底层的一侧形成第二柔性基底层;

依次形成第二阻挡层、驱动结构层、发光元件和封装层;

剥离所述刚性衬底基板,得到所述显示基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110093842.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top