[发明专利]掩膜板及蒸镀装置

权利要求书

1.一种掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括蒸镀区和遮挡区，所述掩膜板还包括：

支撑条，位于所述掩膜板本体的第一侧的所述遮挡区；

隔离部，位于所述掩膜板本体的第二侧的所述遮挡区，所述第一侧与所述第二侧分别位于所述掩膜板本体的相对的两侧。

2.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述隔离部投影的宽度小于所述支撑条的宽度。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑条与所述隔离部均为条形结构，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述支撑条的投影与所述隔离部的投影至少部分重合。

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，多个所述支撑条沿第一方向延伸并沿第二方向排列，多个所述隔离部沿第二方向延伸并沿第一方向排列，所述第一方向与所述第二方向交叉。

5.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑条为分别沿第一方向和第二方向延伸的网格状结构，所述隔离部为分别沿所述第一方向和所述第二方向延伸的网格状结构，所述第一方向和所述第二方向交叉，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述支撑条的投影完全覆盖所述隔离部的投影。

6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑条为条形结构或网状结构，所述隔离部为位于所述掩膜板本体第二侧表面并向远离所述第二侧表面延伸的若干凸起，在平行于所述掩膜板本体的平面上，所述支撑条的投影完全覆盖所述凸起的投影。

7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述凸起具有靠近掩膜板本体的第一面与远离掩膜板本体的第二面，所述第一面的面积大于所述第二面的面积。

8.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述凸起在所述掩膜板本体上的密度由所述掩膜板的中心区域向边缘区域逐渐减小。

9.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述隔离部的高度小于10um。

10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项中所述的掩膜版，还包括蒸镀源和待蒸镀基板，其中：

所述支撑条位于所述掩膜板靠近蒸镀源的一侧，所述隔离部位于所述掩膜板靠近待蒸镀基板的一侧。