[发明专利]电子束光刻机

权利要求书

1.一种电子束光刻机，其特征在于：包括真空装置、支撑架、光电阴极板、光线及光束引导装置、第一光源、第二光源、电磁透镜及硅片承载台，支撑架、光电阴极板、光线及光束引导装置、第一光源、第二光源、电磁透镜及硅片承载台设置在真空装置中，光电阴极板、光线及光束引导装置、电磁透镜及硅片承载台固定在支撑架上，光线及光束引导装置位于硅片承载台上方，光线及光束引导装置包括光束引导腔体、第一光线引导接收腔体、第二光线引导接收腔体，光束引导腔体开设有上开口、下开口，上开口大于下开口且上开口与下开口相正对，光电阴极板覆盖在上开口上，第一光线引导接收腔体、第二光线引导接收腔体设置在光束引导腔体的两侧，且靠近上开口；第一光源、第二光源对应的安装在第一光线引导接收腔体、第二光线引导接收腔体中，且第一光源、第二光源发射的光线照射在光电阴极板上，且从光电阴极板上反射的光线对应的射入第二光线引导接收腔体、第一光线引导接收腔体中；光电阴极板在第一光源、第二光源的光线照射下产生成像电子束流；电磁透镜设置在光束引导腔体外侧，对光电阴极板产生的成像电子束流进行折射和汇聚，以使成像电子束流汇聚在硅片的光刻胶上，并进行曝光和显影。

2.根据权利要求1所述的电子束光刻机，其特征在于：光电阴极板的第一面制作有电路图案，光电阴极板的第一面上没有电路图案的部位涂有遮挡层，遮挡层在光源的照射下不产生电子束。

3.根据权利要求2所述的电子束光刻机，其特征在于：第一光源、第二光源为或X光、紫外线、激光、电子束流轰击中的任意一种。