[发明专利]光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法

权利要求书

1.一种光罩杂质去除设备，其特征在于，包括承载装置和真空吸附枪，所述承载装置用于承载光罩，所述真空吸附枪与所述承载装置连接，用于吸附所述光罩的表面的杂质。

2.根据权利要求1所述的光罩杂质去除设备，其特征在于，所述真空吸附枪包括吸附头、真空吸附管和固定机构，所述真空吸附管与所述固定机构连接，所述固定机构与所述承载装置连接，用于固定所述真空吸附管，所述吸附头可转动地设置在所述真空吸附管的进气端，并与所述真空吸附管连通，用于吸附所述光罩的表面的杂质。

3.根据权利要求2所述的光罩杂质去除设备，其特征在于，所述固定机构包括固定卡环、支撑杆和固定套环，所述固定卡环卡接在所述承载装置上，所述支撑杆的一端与所述固定卡环连接，所述固定套环设置在所述支撑杆的另一端，并与所述真空吸附管连接。

4.根据权利要求3所述的光罩杂质去除设备，其特征在于，所述支撑杆包括固定套筒、调节杆和第一调节旋钮，所述固定套筒与所述固定卡环连接，所述调节杆部分容置在所述固定套筒内，所述固定套环设置在所述调节杆上，所述第一调节旋钮设置在所述固定套筒上，用于抵持并固定所述调节杆伸入所述固定套筒的部分。

5.根据权利要求2所述的光罩杂质去除设备，其特征在于，所述真空吸附管的进气端还设置有第二调节旋钮，所述吸附头转动套设在所述真空吸附管的端部，所述第二调节旋钮用于抵持并固定所述吸附头。

6.根据权利要求2或5所述的光罩杂质去除设备，其特征在于，所述吸附头上设置有真空吸力控制器，所述真空吸力控制器用于控制所述吸附头的吸力。

7.根据权利要求1所述的光罩杂质去除设备，其特征在于，所述承载装置包括座体、承载台、支撑臂和显微镜，所述承载台设置在所述座体上，所述支撑臂设置在承载台上，所述显微镜设置在所述支撑臂的顶端，并与所述承载台相对应。

8.一种光罩杂质去除方法，适用于如权利要求1-7任一项所述的光罩杂质去除设备，其特征在于，包括：

利用真空吸附枪吸附放置在承载装置上的光罩表面的杂质。

9.根据权利要求8所述的光罩杂质去除方法，其特征在于，在利用真空吸附枪吸附放置在承载装置上的光罩表面的杂质的步骤之前，还包括：

定位所述光罩表面的杂质；

将所述真空吸附枪对准所述光罩表面的杂质。

10.根据权利要求9所述的光罩杂质去除方法，其特征在于，定位所述光罩表面的杂质的步骤，包括：

将所述光罩移动至显微镜下；

利用所述显微镜对所述光罩表面的杂质进行定位。