[发明专利]沉积掩模在审

专利信息
申请号: 202110105063.3 申请日: 2017-03-23
公开(公告)号: CN112952028A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 孙晓源;朴宰奭 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 杜诚;刘敏
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 沉积
【说明书】:

一种沉积掩模,包括金属板,该金属板包括:具有多个通孔和介于通孔之间的桥的有效区域;设置在有效区域的外部的非有效区域;设置在非有效区域中且位置靠近金属板的一个纵向端部的第一凹槽;以及位置靠近与该一个纵向端部相对的另一个纵向端部的第二凹槽,其中,当在该一个纵向端部和该另一个纵向端部处在纵向方向上以0.7kgf的力拉伸金属板时,通过等式2计算的扭曲指数α在0.85至1.15的范围内,<等式2>α=2B/(d1+d2)。其中,d1是在介于第一凹槽和与第一凹槽相邻的有效区域之间的非有效区域处测量的金属板的宽度,d2是在介于第二凹槽和与第二凹槽相邻的有效区域之间的非有效区域处测量的金属板的宽度,B是在有效区域的中间点处测量的金属板的宽度。

本申请是中国申请号为201780021805.6,申请日为2017年3月23日,发明名称为“用于沉积的掩模和使用其的OLED面板”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

实施方式涉及沉积掩模。更具体地,可以使用根据实施方式的沉积掩模来制造有机发光二极管(OLED)面板。

背景技术

由于需要具有更高分辨率和表现更低功耗的显示装置,已经开发了各种显示装置,例如液晶显示装置或电致发光显示装置。

由于电致发光显示装置具有比液晶显示装置的特性更优异的特性,包括更低的发光、更低的功耗以及更高的分辨率,所以电致发光显示装置作为下一代显示装置已经受到关注。

电致发光显示装置包括有机和无机电致发光显示装置。换句话说,有机和无机电致发光显示装置可以根据发光层的材料来彼此区分。

其中,有机电致发光显示装置受到关注,原因是有机电致发光显示装置具有更宽的视角和更快的响应速度,并且需要更低的功率。

发光层的有机材料可以包括在图案中,以通过精细金属掩模方式在基板上形成像素。

在这种情况下,精细金属掩模,即沉积掩模,可以具有与要在基板上形成的图案相对应的通孔。因此,随着在基板上对准精细金属掩模之后沉积有机材料,可以形成红色、绿色和蓝色图案以形成像素。

用作沉积掩模的金属板可以通过蚀刻工艺形成为在其中具有通孔。

在这种情况下,如果在非蚀刻区域中测量的沉积掩模的厚度与蚀刻区域中测量的用以将通孔彼此连接并支撑通孔的沉积掩模的厚度之间存在显著差异,则在沉积掩模被拉伸时,沉积掩模可能在蚀刻区域中扭曲。另外,在蚀刻工艺中防止蚀刻的光致抗蚀剂层或光敏膜抗蚀剂层可能剥离(delaminated)。因此,由于蚀刻均匀性可能劣化,所以通孔的均匀性可能劣化。

当通孔不均匀时,沉积均匀性可能劣化。因此,降低了图案的沉积效率,使得工艺效率可能降低。

发明内容

技术问题

实施方式提供了具有均匀通孔的沉积掩模。

技术方案

根据实施方式,提供了包括金属板的沉积掩模。该金属板包括:有效区域,该有效区域具有多个通孔和介于通孔之间的桥;以及设置在有效区域的外部的非有效区域。通孔在连接部分中形成,在连接部分中,形成在第一表面中的第一表面孔与形成在第二表面中的第二表面孔接触,第二表面与第一表面相对,第一表面孔的宽度小于第二表面孔的宽度,第一表面孔的深度小于第二表面孔的深度,在等式1中计算的k值在从0.65或更大至小于1的范围内。

等式1

在上述等式中,T表示在非有效区域中测量的沉积掩模的厚度,H1表示在介于通孔之中的两个相邻通孔之间的桥具有最大厚度的点处从连接部分起在第一表面的方向上限定的厚度,以及H2表示在介于两个相邻通孔之间的桥具有最大厚度的点处从连接部分起在第二表面的方向上限定的厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG伊诺特有限公司,未经LG伊诺特有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110105063.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top