[发明专利]反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机

权利要求书

1.反应堆用大长径比管材真空镀膜机，其特征在于，包括平移门（2）、真空腔（1）、弧源和工件架（3），所述弧源设置在所述真空腔（1）的内侧壁，所述工件架（3）设置在所述平移门（2）上，所述平移门（2）和所述真空腔（1）可拆卸连接；

所述工件架（3）包括公转组件和自转组件，所述公转组件包括大转盘（38）和大齿轮（37），所述大转盘（38）和大齿轮（37）通过轴连接，所述大转盘（38）位于所述大齿轮（37）的下方，所述自转组件包括小齿轮（310）和自转轴（35），所述小齿轮（310）与所述大齿轮（37）啮合，所述自转轴（35）与所述大转盘（38）连接，所述自转轴（35）上安装工件（33）；

所述真空腔（1）包括一边开设有门口，所述门口通过平移门（2）密封，所述工件架（3）通过上支撑（31）柱与平移门（2）的顶部连接，所述工件架（3）的下端通过下支撑（32）柱与所述平移门（2）的下端连接，所述平移门（2）所述平移门（2）包括门板（21），所述门板（21）上设置有主加强筋（23）和辅加强筋，所述门板（21）通过两侧支撑（27）与底部导向轮（210）相连后座于导轨（8）上，所述门板（21）的底部设置有防倾覆搭板（29）。

2.根据权利要求1所述的反应堆用大长径比管材真空镀膜机，其特征在于，所述弧源包括第一弧源和补偿弧源，所述第一弧源在所述真空腔（1）的内侧壁呈多列错位分布，所述补偿弧源位于第一弧源的底部和顶部。

3.根据权利要求1或2所述的反应堆用大长径比管材真空镀膜机，其特征在于，每一列弧源均设置有弧源挡板（5），所述弧源挡板（5）包括气缸（51）、焊接波纹管（52）和挡板单元（53），所述焊接波纹管（52）连接所述气缸（51）和所述挡板单元（53），所述挡板单元（53）为多个，相邻挡板单元（53）之间通过连接板（54）串联，所述挡板单元（53）的两侧设置有导向杆（55）。

4.根据权利要求1所述的反应堆用大长径比管材真空镀膜机，其特征在于，所述上支撑（31）柱下方设有第一陶瓷绝缘垫（311），所述下支撑（32）柱与导向轴（312）之间设置有第二陶瓷绝缘垫（313）。

5.根据权利要求1所述的反应堆用大长径比管材真空镀膜机，其特征在于，所述真空腔（1）的内侧壁还设置有铠装加热器（6），所述铠装加热器（6）呈多列分布，其中所述真空腔（1）分布有几列第一铠装加热器（6），所述门板（21）上设置有几列第二铠装加热器（6），每列所述铠装加热器（6）包括相互连接的上部加热器、中部加热器和下部加热器。

6.根据权利要求5所述的反应堆用大长径比管材真空镀膜机，其特征在于，所述真空腔（1）的内侧壁设置有第一滑槽，所述第一铠装加热器（6）与所述第一滑槽滑动连接，所述门板（21）的内侧壁设置有第二滑槽，所述第二铠装加热器（6）与所述第二滑槽滑动连接。

7.根据权利要求1或2所述的反应堆用大长径比管材真空镀膜机，其特征在于，所述真空腔（1）的外表面设置有冷却水道（15），所述真空腔（1）通过弧源接口（17）连接弧源，部分所述冷却水道（15）围合所述弧源接口（17）。

8.根据权利要求1所述的反应堆用大长径比管材真空镀膜机，其特征在于，所述大转盘（38）通过柱体连接有第二转动件，所述第二转动件上设置有下端套管（36），所述工件（33）的一端通过夹具（34）固定于所述自转轴（35）上，所述工件（33）的另一端延伸至所述下端套管（36）中且不抵触到下端套管（36）的底部。