[发明专利]衬底处理装置及衬底处理系统

说明书

本申请案涉及一种衬底处理装置及衬底处理系统。在处理容器内处理衬底的衬底处理装置中，防止因部件滑擦引起的扬尘污染衬底，且将盖部确实地锁定在容器主体。因此，衬底处理系统(1)具备：处理容器主体(12)；盖部(13)，可堵塞处理容器主体的开口；移动部(14)，使盖部相对于处理容器主体相对移动，而将开口打开及关闭；以及锁定机构(16)，将盖部锁定在处理容器主体。锁定机构具有：臂部(161)，在处理容器主体及盖部中的一侧向另一侧延设，且当盖部位于从处理容器主体离开的离开位置时，超出与处理容器主体的间隙空间延伸至另一侧；以及卡止部(162)，与臂部中当盖部位于离开位置时位于超出间隙空间的位置的部位卡合，限制臂部的位移。

技术领域

本发明涉及一种在处理容器内处理衬底的衬底处理装置，尤其涉及在高压下进行处理的衬底处理装置及包含衬底处理装置的衬底处理系统。

背景技术

半导体衬底、显示装置用玻璃衬底等各种衬底的处理步骤中，包含利用各种处理流体来处理衬底的步骤。为了有效率地利用处理流体及防止处理流体向外部散逸，有时在气密性的处理容器内进行这种处理。该情况下，在处理容器设置用来搬入、搬出衬底的开口、及用来堵塞该开口而确保内部空间的气密性的盖部。尤其是在相对于周围氛围为高压的条件下进行处理的情况下，为了保持气密性并防止因内部压力导致盖部打开，需要用来将处理容器主体与盖部确实地固定的锁定机构。

例如，日本专利特开2015-039040号公报(专利文献1)所记载的处理装置中，将成为处理对象的衬底(晶圆)以载置于平板状支架上的状态搬入处理容器内。而且，与支架一体化的盖体堵塞处理容器的开口后，在处理容器上安装按压盖体的锁板，由此机械性地抑制盖体飞出。此外，例如在日本专利特开2013-033964号公报(专利文献2)所记载的衬底处理装置中，晃动自如地安装在壳体主体的门堵塞开口，并且与加压板卡合，由此将门锁定，保持壳体内的气密。

发明内容

[发明要解决的问题]

这种包含处理容器的处理装置例如应用于净化衬底的工艺时，需要防止向处理容器搬入或从处理容器中搬出的衬底被机构零件的动作引起的扬尘污染。然而，所述现有技术的锁定机构都是在处理容器的开口部附近部件彼此产生滑擦的构造。因此，因部件间的滑擦而产生的微粉作为微粒飞散或附着于衬底的搬送路径或开口部周围，该微粉可能成为衬底受污染的原因。

[解决问题的技术手段]

本发明是鉴于所述问题而完成的，目的在于提供一种构造，在处理容器内处理衬底的衬底处理装置中，可防止因部件滑擦引起的扬尘污染衬底，且将盖部确实地锁定在容器主体。

为了达成所述目的，本发明的一形态具备：处理容器主体，具有可收容衬底的内部空间、及与所述内部空间连通且用来使所述衬底通过的开口；盖部，可堵塞所述开口；移动部，使所述盖部相对于所述开口相对移动，利用所述盖部将所述开口打开及关闭；以及锁定机构，将所述盖部锁定在所述处理容器主体；且所述移动部使所述盖部相对于所述处理容器主体的相对位置在堵塞位置与离开位置之间变化。此处，所述堵塞位置是所述盖部接近所述处理容器主体而堵塞所述开口的位置，所述离开位置是所述盖部朝对于所述开口而言与所述内部空间相反的方向、且与所述开口之间隔开用来使向所述内部空间搬送的所述衬底通过的间隙空间而离开的位置。而且，所述锁定机构具有：臂部，在所述处理容器主体及所述盖部中的一侧，向另一侧延设；以及卡止部，当所述盖部位于所述堵塞位置时与所述臂部卡合，限制所述臂部的位移；所述臂部在所述盖部位于所述离开位置时，前端超出所述间隙空间延伸至所述另一侧，供所述卡止部卡合的所述臂的部位是所述臂部中当所述盖部位于所述离开位置时位于超出所述间隙空间的位置的部位。

本发明中，盖部的“堵塞位置”及“离开位置”是相对于处理容器主体而言的相对位置，但为了避免繁琐，下文中有时省略这些位置是“相对于处理容器主体而言的相对位置”的记载。同样，以下说明中，只要未特别提及，部件的“移动”是指相对于其他部件而言的“相对移动”，并非限定实际空间中的移动主体。