[发明专利]一种制备周期减半的亚微米光栅的方法

权利要求书

1.一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：亚微米母光栅的PDMS软模板的制备，步骤如下：

S11：将PDMS本体材料和固化剂按照体积比10:1的比例在烧杯中混合并且搅拌均匀，令该混合液在空气中静置1个小时以充分去除气泡；

S12：将S11中没有气泡的混合液倾倒在所要复制的亚微米母光栅上，并使混合液完全覆盖亚微米母光栅，静置1个小时，再将其整体置于60℃热板上加热1个小时使混合液固化；自然冷却至室温后将固化好的PDMS材料从亚微米母光栅上揭下，此时便获得了亚微米母光栅的PDMS软模板；

S2：基片上的薄膜材料制备，步骤如下：将所用基片清洗干净并在其上旋转涂覆液体薄膜材料，静置10分钟后将其整体置于加热板上加热使薄膜材料固化，薄膜材料的厚度控制在50nm到100nm；

S3：周期减半的亚微米子光栅的制备，步骤如下：

S31：将S1中制得的亚微米母光栅的PDMS软模板上有亚微米结构的一面使用紫外臭氧清洗机清洗1分钟，然后将其粘附到S2中基片上的薄膜材料表面，并使两者紧密贴合在一起；

S32：将两者整体置于加热板上加热，加热温度要高于所用薄膜材料的玻璃化转变温度，以保证薄膜材料在熔融状态下能够迁移流动；加热5分钟后将两者整体从热板上取下并冷却至室温，然后将亚微米母光栅的PDMS软模板与基片分离，便在基片上制备出周期减半的亚微米子光栅。

2.根据权利要求书1所述的一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，其特征在于，步骤S1中所用的亚微米母光栅是正弦形光栅或矩形光栅；亚微米母光栅周期为200nm到1μm，光栅上亚微米结构的深度不小于S2中所述的薄膜材料厚度。

3.根据权利要求书1所述的一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，其特征在于，步骤S2中的基片是石英片、玻璃片、或硅片。

4.根据权利要求书1所述的一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，其特征在于，步骤S2中的薄膜材料是光刻胶材料、PS材料、PMMA材料、或PC材料。