[发明专利]静电吸盘和基板固定装置

说明书

本公开提供一种静电吸盘和基板固定装置，该静电吸盘构造为在静电吸盘上吸附并且保持对象。该静电吸盘包括：基体，对象安装在该基体上；静电电极，其设置在基体中；多个加热元件，其设置在基体中；以及多个电流控制元件，其设置在基体中，并且多个电流控制元件中的每一个与加热元件中相对应的一个串联连接；根据从基体的外部朝向电流控制元件中相对应的一个辐射的光来控制电流控制元件的每个操作。

技术领域

本公开涉及一种静电吸盘和基板固定装置。

背景技术

在背景技术中，用于制造半导体器件的成膜设备或等离子体蚀刻设备具有这样的平台：该平台用于在真空处理室中将晶片精确地保持在该平台上。例如，提出了一种作为该平台的基板固定装置，该基板固定装置通过安装在底板上的静电吸盘吸附并且保持晶片。

作为基板固定装置的示例，存在这样的基板固定装置：该基板固定装置具有设置有用于调节晶片温度的加热元件的结构。例如，关于这种基板固定装置，已经提出了这样的方法：在静电吸盘中置有电阻器作为加热元件，并且将电能施加至电阻器使电阻器产生热，或者提出了这样的方法：将用作加热元件的发光二极管布置为具有固定行数和固定列数的规则阵列，或者布置为与同心圆的直径相关，使得同心圆中靠外的一个同心圆比同心圆中靠内的一个同心圆具有更多数量的发光二极管(例如，参见JP-A-2018-525813)。

然而，为了在基板固定装置中独立地控制多个加热元件，需要将用于控制的大量电线引出至静电吸盘的外部。此外，需要将引出至静电吸盘的外部的电线经由形成在底板中的通孔引出至外部。因此，随着电线的数量增加，通孔的数量也会增加。即，由于电线的数量增加，在底板中由通孔所占据的面积增加，并且用于设计底板的自由度降低。

发明内容

本公开提供一种静电吸盘，即使在静电吸盘中设置多个加热元件的情况下，该静电吸盘也能够抑制用于设计底板的自由度降低。

某个实施例提供了一种静电吸盘，该静电吸盘构造为在静电吸盘上吸附并且保持对象。

该静电吸盘包括：

基体，对象安装在该基体上；

静电电极，其设置在基体中；

多个加热元件，其设置在基体中；以及

多个电流控制元件，其设置在基体中，并且多个电流控制元件中的每一个与加热元件中相对应的一个串联连接。

根据从基体的外部朝向电流控制元件中相对应的一个辐射的光来控制电流控制元件的每个操作。

附图说明

图1是以简化的方式示出根据第一实施例的基板固定装置的示意性截面图；

图2是示出在基体中限定的温度可控区域的平面图；

图3是示意性地示出分别布置在温度可控区域中的加热元件的平面图；

图4是示出根据第一实施例的基板固定装置中加热元件和电流控制元件之间的电连接的图；

图5是示出电流控制元件的周边部分的安装结构的部分截面图；

图6是图5中的电流控制元件的周边部分被放大的局部放大截面图；

图7是以简化的方式示出根据比较例的基板固定装置的示意性截面图；

图8是根据第一实施例的变型例1的基板固定装置中的电流控制元件的周边部分被放大的局部放大截面图；并且

图9是以简化的方式示出根据第一实施例的变型例2的基板固定装置的示意性截面图。

具体实施方式