[发明专利]静电吸盘和基板固定装置

权利要求书

1.一种静电吸盘，其构造为在所述静电吸盘上吸附并且保持对象，所述静电吸盘包括：

基体，所述对象安装在所述基体上；

静电电极，其设置在所述基体中；

多个加热元件，其设置在所述基体中；

多个电流控制元件，其设置在所述基体中，并且所述多个电流控制元件中的每一个与所述加热元件中相对应的一个串联连接；以及

控制电路，其设置在所述基体中，并且所述控制电路与所述多个电流控制元件相连接并且构造为控制所述多个电流控制元件中的每一个的操作。

2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中：

所述加热元件中的第一加热元件与所述电流控制元件中的第一电流控制元件串联连接；并且

所述控制电路构造为控制所述第一电流控制元件的操作，以便允许电流流入与所述第一电流控制元件串联连接的所述第一加热元件。

3.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，其中：

所述基体被划分为多个区域；

所述多个区域中的每一个的温度被独立地控制；并且

所述加热元件中的每一个布置在所述区域中相对应的一个中。

4.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，其中：

所述电流控制元件中的每一个是晶体管。

5.根据权利要求4所述的静电吸盘，其中：

所述晶体管能够操作的最高温度为100℃以上。

6.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，其中：

所述控制电路包括：

单个第一控制电路，其构造为接收来自所述静电吸盘的外部的控制信号，以及

至少一个第二控制电路，其与所述第一控制电路相连接，并且构造为控制所述电流控制元件中的至少一些电流控制元件的操作。

7.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，还包括：

另一加热元件，其设置在所述基体中，其中，在所述静电吸盘的厚度方向上，所述另一加热元件的位置与所述加热元件的位置不同。

8.一种基板固定装置，包括：

底板，其具有第一通孔、第二通孔和第三通孔；以及

根据权利要求1或2所述的静电吸盘，所述静电吸盘安装在所述底板的一个面上，

其中：

所述第一通孔中布置有第一电线，所述第一电线与所述电流控制元件电连接，并与电源电连接；

所述第二通孔中布置有第二电线，所述第二电线与所述加热元件电连接，并与接地部电连接；并且

所述第三通孔中布置有第三电线，所述第三电线构造为向所述控制电路提供控制信号。

9.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中：

所述基体具有多个第一凹部和第二凹部；

所述电流控制元件中的至少一个容纳在所述第一凹部的相对应的一个中；并且

所述控制电路容纳在所述第二凹部中。