[发明专利]发光基板和制备发光基板的方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202110127032.8 申请日: 2021-01-29
公开(公告)号: CN112928195B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 赵蛟;郑皓亮;肖丽;刘冬妮;陈亮;陈昊;玄明花 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62;H01L25/075;H01L27/12;H01L21/77;H01L33/64
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 李岩
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种发光基板,其特征在于,包括:

衬底;

第一信号线,所述第一信号线位于所述衬底的一侧;

电极层,所述电极层位于所述第一信号线远离所述衬底的一侧,所述电极层包括第一电极端、第二电极端以及第二信号线,所述第一电极端通过过孔与所述第一信号线电连接;

至少一个发光元件,所述发光元件与所述第一电极端和所述第二电极端绑定连接,

所述第一信号线为阴极电源线,所述第二信号线为阳极电源线,

所述第一信号线以及所述电极层之间进一步具有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括:

有源层,所述有源层位于所述第一信号线远离所述衬底的一侧;

第一绝缘层,所述第一绝缘层覆盖所述有源层并位于所述有源层远离所述衬底的一侧;

源漏金属层,所述源漏金属层位于所述第一绝缘层远离所述衬底的一侧,且所述源漏金属层中的源漏极通过过孔与所述有源层相连;

第二绝缘层,所述第二绝缘层位于所述源漏金属层远离所述第一绝缘层的一侧,所述第二信号线通过过孔与所述源漏极中的一个相连,所述第二电极端通过过孔与所述源漏极中的另一个相连,

连接所述第一电极端以及所述第一信号线的过孔包括:

第一子孔,所述第一子孔自所述电极层延伸至所述源漏金属层;

第二子孔,所述第二子孔自所述源漏金属层延伸至所述第一信号线处,

所述第一子孔在所述衬底上的正投影位于所述第二子孔在所述衬底上正投影范围之内,且所述第一子孔在所述衬底上的正投影小于所述第二子孔在所述衬底上正投影。

2.根据权利要求1所述的发光基板,其特征在于,所述第一信号线在任意方向的线宽均大于所述第二信号线的线宽。

3.根据权利要求2所述的发光基板,所述第一信号线包括面状导电层。

4.根据权利要求1所述的发光基板,其特征在于,第一信号线在所述衬底上的正投影成网格状。

5.根据权利要求1所述的发光基板,其特征在于,所述衬底以及所述第一信号线之间进一步具有合金缓冲层。

6.根据权利要求1所述的发光基板,其特征在于,形成所述第一信号线以及所述第二信号线的材料分别独立地包括Cu;

所述第一信号线以及所述第二信号线的厚度分别独立地为1.5~2.5微米;

所述第一信号线以及所述第二信号线的走线宽度分别独立地不小于100微米。

7.根据权利要求1所述的发光基板,其特征在于,所述薄膜晶体管以及所述第一信号线之间进一步具有缓冲层;

所述缓冲层的厚度大于0.3微米。

8.一种制备权利要求1-7任一项所述的发光基板的方法,其特征在于,包括:

在衬底上形成第一信号线,所述第一信号线位于所述衬底的一侧;

在所述第一信号线远离所述衬底的一侧形成电极层,所述电极层包括第一电极端、第二电极端以及第二信号线;并令所述电极层的第一电极端通过过孔与所述第一信号线电连接。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述第一信号线以及所述第二信号线分别独立地通过电镀金属Cu形成。

10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,令第一电极端通过过孔与所述第一信号线电连接包括:

形成薄膜晶体管的源漏金属层时,形成自所述源漏金属层延伸至所述第一信号线的第二子孔,并在所述第二子孔内填充源漏金属;

形成所述电极层之前,形成所述电极层延伸至所述源漏金属层的第一子孔,并在形成所述第一信号线时,令形成所述第一信号线的材料填充至所述第一子孔内。

11.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的发光基板。

12.根据权利要求11所述的显示装置,其特征在于,所述发光元件包括发光二极管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110127032.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top