[发明专利]版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质

说明书

一种版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质，方法包括：获取芯片设计版图，包括在第一方向上相邻接的第一标准单元区和第二标准单元区，在第二方向上，第一标准单元为第二标准单元的高度的整数倍，第一标准单元区有若干第一有源区，第二标准单元区有若干第二有源区，在第一标准单元区和第二标准单元区内部，第一有源区和相邻第二有源区在第二方向上的边界相齐平，第一方向和第二方向相垂直；确定第一标准单元区和第二标准单元区的交界位置；在交界位置处，对版图层中的目标图形进行光学邻近修正，用于去除位于交界位置处的边界区域中的目标图形。完成修正后的芯片设计版图既能获得较小尺寸的标准单元区，且同时满足低功耗和高性能的需求。

技术领域

本发明实施例涉及半导体制造领域，尤其涉及一种版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质。

背景技术

标准单元库是超大规模集成电路(Very Large Scale Integration，VLSI)自动化设计的基础，其采用全定制方法设计好各种标准单元(Standard Cell)电路的版图，然后把这些经过优化设计并验证通过的标准单元的版图存入数据库。设计时将所需标准单元从单元库中调出，将其排列成若干行，行间留有布线通道。然后根据电路要求将各标准单元用连线联接起来，同时把相应的输入/输出单元和压焊块连接起来，得到所要求的芯片版图。

标准单元库中通常具有多种类型的标准单元，例如高密度(High Density)标准单元或高性能(High Performance)标准单元。不同类型的标准单元具有不同的高度，每个标准单元具有固定的高度(即track高度)，标准单元中的电源、地线及输入输出端口位置都有特殊的规定，使得标准单元之间可以简单且有条理地进行连接，布局也有规律，为以后的高层次的系统设计带来很大的方便，并且带有很强的规律性。应用标准单元能够自动进行逻辑综合和版图布局布线，提高设计效率。

发明内容

本发明实施例解决的问题是提供一种版图修正方法及系统、掩模版、设备和存储介质。

为解决上述问题，本发明实施例提供一种版图修正方法，包括：获取芯片设计版图，所述芯片设计版图包括多层具有目标图形的版图层，所述芯片设计版图包括标准单元区，所述标准单元区包括用于形成第一标准单元的第一标准单元区、以及用于形成第二标准单元且在第一方向上与所述第一标准单元区相邻接的第二标准单元区，在第二方向上，所述第一标准单元区的高度为所述第二标准单元区的高度的整数倍，所述第一标准单元内部具有若干第一有源区，所述第二标准单元内部具有若干第二有源区，所述第二标准单元区在所述第二方向的边界处具有边界区域，所述边界区域还沿所述第一方向延伸至所述第一标准单元区和第二标准单元区的交界处，且在所述第一标准单元区和第二标准单元区的内部，所述第一有源区和相邻的第二有源区在第二方向上的边界相齐平，所述第一方向和第二方向相垂直；确定所述第一标准单元区和第二标准单元区的交界位置；在所述交界位置处，对所述版图层中的目标图形进行光学邻近修正，用于去除位于所述交界位置处的边界区域中的目标图形。

相应的，本发明实施例还提供一种版图修正系统，包括：版图获取模块，用于获取芯片设计版图，所述芯片设计版图包括多层具有目标图形的版图层，所述芯片设计版图包括标准单元区，所述标准单元区包括用于形成第一标准单元的第一标准单元区、以及用于形成第二标准单元且在第一方向上与所述第一标准单元区相邻接的第二标准单元区，在第二方向上，所述第一标准单元和高度为所述第二标准单元的高度的整数倍，所述第一标准单元区内部具有若干第一有源区，所述第二标准单元区内部具有若干第二有源区，所述第二标准单元区在所述第二方向的边界处具有边界区域，所述边界区域还沿所述的第一方向延伸至所述第一标准单元区的交界处，且在所述第一标准单元区和第二标准单元区的内部，所述第一有源区和相邻的第二有源区在所述第二方向上的边界相齐平，所述第一方向和第二方向相垂直；位置获取单元，用于确定所述第一标准单元区和第二标准单元区的交界位置；图形修正模块，用于在所述交界位置处，对所述版图层中的目标图形进行光学邻近修正，用于去除位于所述交界位置处的边界区域中的目标图形。