[发明专利]显示面板及其制备方法有效
申请号: | 202110128175.0 | 申请日: | 2021-01-29 |
公开(公告)号: | CN112909059B | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
发明(设计)人: | 刘少伟 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52 |
代理公司: | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人: | 王海臣 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
开孔;
隔离区,所述隔离区设置有分别环绕所述开孔的隔离实体部和隔离间隙,所述隔离实体部和所述隔离间隙相邻布置,所述隔离实体部靠近所述隔离间隙的侧壁上设置有沟道,所述沟道的深度方向背离所述隔离间隙;
部分填充所述沟道的填充层;以及
显示器件,用于发出显示光,所述显示器件包括至少一个功能膜层,所述至少一个功能膜层延伸至所述隔离区;所述至少一个功能膜层被所述隔离间隙隔断;
所述隔离实体部包括依次层叠的多个隔离层,所述多个隔离层包括与所述至少一个功能膜层接触的顶层隔离层;所述多个隔离层中除了所述顶层隔离层之外的至少一个隔离层在平行于所述开孔的端面方向上的宽度小于所述顶层隔离层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述填充层的材料包括有机材料。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述隔离区包括多个所述隔离间隙;
其中,所述多个所述隔离间隙沿远离所述开孔的中心方向分布设置。
4.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
制备围绕所述显示面板的开孔区设置的隔离实体部和半制成隔离间隙,其中,所述隔离实体部和所述半制成隔离间隙相邻布置,所述隔离实体部靠近所述半制成隔离间隙的侧壁上设置有沟道,所述沟道的深度方向背离所述半制成隔离间隙;
制备填充所述半制成隔离间隙的填充材料层;以及
对所述填充材料层的第一区域进行图形化处理,形成填充部分所述沟道的填充层,以得到隔离间隙。
5.根据权利要求4所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述制备填充所述半制成隔离间隙的填充材料层之后,还包括:
对所述填充材料层的第二区域进行图形化处理,形成像素界定层。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述像素界定层包括开口;在所述对所述填充材料层的第二区域进行图形化处理,形成像素界定层之后,还包括:
在所述像素界定层的所述开口内制备显示器件,所述显示器件包括至少一个功能膜层,所述至少一个功能膜层被所述隔离间隙隔断。
7.根据权利要求4-6中任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述制备围绕所述显示面板的开孔区设置的隔离实体部和半制成隔离间隙,包括:
在阵列基板上依次制备多个隔离材料层;
对所述多个隔离材料层的第三区域进行图形化处理,得到具有平整侧壁的半制成隔离实体部和中空隔断带;
对所述半制成隔离实体部的所述平整侧壁进行侧蚀,以得到所述隔离实体部和所述半制成隔离间隙。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述对所述多个隔离材料层的第三区域进行图形化处理,得到具有平整侧壁的半制成隔离实体部和中空隔断带的同时,还包括:
对所述多个隔离材料层的第四区域进行所述图形化处理,得到源极和漏极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的