[发明专利]一种高梯度电阻片及其制造方法

权利要求书

1.一种高梯度电阻片的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，将氧化铋、氧化钴、氧化锑、氧化镍、氧化锰、氧化铬和二氧化硅通过研磨机研磨混匀，得到添加剂；以质量百分数计，氧化铋的质量分数为3～5％，氧化钴的质量分数为1.5～3.5％，氧化锑的质量分数为4～6％，氧化镍的质量分数为0.1～0.5％，氧化锰的质量分数为0.8～2.0％，氧化铬的质量分数为1～1.5％，二氧化硅的质量分数为2～3％；

步骤2，将添加剂和氧化锌加入到混匀机中，混匀后至于球磨机中球磨，得到造粒料；研磨后的D50的添加剂颗粒小于0.4μm；其中氧化锌的质量分数为82～89％，氧化锌和步骤1中的各个物质的物料总和为100％；

步骤3，将造粒料压制成型，成型过程中进行若干次排气，一次保压成型，得到过程电阻片；

步骤4，将过程电阻片进行烧结，得到烧结后的电阻片；

步骤4中，烧结包括预烧、烧成和热处理；

所述预烧的温度为700℃～950℃，预烧时间为3～10个小时；

所述烧成温度为1100-1200℃，烧成保温时间不小于10h；

所述热处理的温度为600℃～700℃，在目标温度下保温2-3小时；

热处理过程中，从室温升温至目标热处理温度的速度为150℃/小时，保温目标时间后的降温速度为80℃/小时；

热处理前，烧成后的电阻片侧面均涂覆一层无铅玻璃釉；

步骤5，在烧结后的电阻片表面进行喷涂铝电极，得到高梯度电阻片。

2.根据权利要求1所述的一种高梯度电阻片的制造方法，其特征在于，步骤1中，砂磨介质为0.4～0.5mm直径的氧化锆珠。

3.根据权利要求1所述的一种高梯度电阻片的制造方法，其特征在于，步骤2中，混匀机中固含量为58-63％。

4.根据权利要求1所述的一种高梯度电阻片的制造方法，其特征在于，步骤3中，每次排气时间为4-6s，保压时间为8-20s，排气次数为5-7次。

5.一种通过权利要求1-4任意一项所述的制造方法制得的高梯度电阻片，其特征在于，电阻片的表面铝电极厚度为0.07mm～0.1mm，所述电阻片的梯度为300～330V/mm。