[发明专利]一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置和光刻机

权利要求书

1.一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，包括：

校正模块，其位于狭缝式曝光带测量区域与狭缝式曝光带的相反侧，其中，狭缝式曝光带测量区域位于狭缝式曝光带的两侧；

在所述校正模块和所述狭缝式曝光带测量区域之间，具有狭缝式曝光带控制区域，滤光板可移动至所述狭缝式曝光带控制区域中；其中，

校正模块和滤光板在朝向所述狭缝的方向上都是可移动的。

2.如权利要求1所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，位于所述狭缝式曝光带一侧的校正模块是多个，每个所述校正模块在朝向所述狭缝式曝光带的方向上的移动可以被单独控制。

3.如权利要求1所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，所述校正模块在相对于狭缝测量区域方向上的可移动距离为0至5毫米。

4.如权利要求1所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，所述滤光板在相对于校正模块方向上的可移动距离为0至70毫米。

5.如权利要求1所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，所述滤光板的阻光率在相对于狭缝式曝光带的方向上变化。

6.如权利要求5所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，所述阻光率的范围为1％至20％。

7.如权利要求2所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，所述滤光板的数量与所述校正模块的数量相同。

8.如权利要求7所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，所述滤光板在所述校正模块内，且所述滤光板的一部分可以移动出所述校正模块。

9.如权利要求1所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置，其特征在于，所述校正模块的阻光率为100％。

10.一种光刻机，其特征在于，包括：照明装置、掩膜台、载物台、透镜装置、光刻版及其移动装置和如权利要求1至9中任一项所述的用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置。