[发明专利]一种晶片压覆装置有效
申请号: | 202110132329.3 | 申请日: | 2021-01-31 |
公开(公告)号: | CN112928049B | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 孟庆坡 | 申请(专利权)人: | 红蜂维尔(山东)自动化技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 成都鱼爪智云知识产权代理有限公司 51308 | 代理人: | 代述波 |
地址: | 250200 山东省济南市章丘区双*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶片 装置 | ||
1.一种晶片压覆装置,其特征在于,包括转动组件、升降组件和多个压覆组件,所述转动组件包括转动盘和套筒,所述套筒竖直固定在所述转动盘上,通过所述转动盘转动,可带动所述升降组件上的多个所述压覆组件同时转动,使多个所述压覆组件同时移动到晶片的拾取工位或压覆工位,进行晶片的拾取和压覆,所述升降组件包括升降块和驱动机构,所述升降块设置在所述套筒内,所述驱动机构连接到所述升降块,用于驱动所述升降块沿所述套筒轴线方法自由滑动;
所述套筒的侧壁均匀间隔开设有多个通槽,多个所述通槽沿竖直方向开设,多个所述压覆组件一一对应伸入到所述通槽内,并与所述升降块连接。
2.根据权利要求1所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述压覆组件包括第一移动机构、第二移动机构和覆晶模块,所述第一移动机构伸入到所述通槽内与所述升降块连接,所述第二移动机构设置在所述第一移动机构位于套筒外的部分,所述第一移动机构能沿所述套筒径向带动所述第二移动机构移动,所述覆晶模块设置在所述第二移动机构上,所述第二移动机构能带动所述覆晶模块沿套筒切线方向移动。
3.根据权利要求2所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述第一移动机构包括第一伺服电机、底板、第一移动块和第一丝杆,所述底板上设置有第一滑轨,所述第一移动块设置在所述滑轨上,且能在所述滑轨上自由滑动,所述第一丝杆沿所述第一滑轨方向贯穿所述第一移动块,且与所述第一移动块螺纹连接,所述第一伺服电机连接到所述第一丝杆端部,用于驱动所述第一丝杆转动,所述第二移动机构设置在所述第一移动块上。
4.根据权利要求3所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述第一丝杆的两端设置有轴承座,所述轴承座能够通过轴承将所述第一丝杆的两端固定在所述底板上。
5.根据权利要求4所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述第一丝杆两端的轴承座上还设置有导向杆,所述导向杆与所述轴承座固定,所述导向杆贯穿所述第一移动块,所述第一移动块能沿所述导向杆自由滑动。
6.根据权利要求5所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述第二移动机构包括移动框架、第二移动块、第二伺服电机和第二丝杆,所述移动框架固定在所述第一移动块上,所述移动框架内设置有第二滑轨,所述第二移动块设置在移动框架内,并与所述第二滑轨滑动连接,所述第二丝杆贯穿所述第二移动块,并与所述第二移动块螺纹连接,所述第二伺服电机设置在所述移动框架一端,所述第二丝杆的一端穿过所述移动框架连接到所述第二伺服电机。
7.根据权利要求6所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述覆晶模块设置在所述第二移动块下方,与所述第二移动块固定连接。
8.根据权利要求7所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述覆晶模块包括吸嘴、连接器、转动器、真空阀、真空气路和驱动电机,所述驱动电机设置在所述第二移动块上,所述转动器与所述驱动电机的输出端连接,所述吸嘴固定在所述转动器上,所述连接器分别连通所述吸嘴和所述真空气路,所述真空阀串联在所述真空气路上。
9.根据权利要求1所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述驱动机构包括第三伺服电机、顶盖和第三丝杆,所述顶盖设置在所述套筒的上部,所述第三伺服电机设置在所述顶盖上,所述第三丝杆贯穿所述升降块,并与所述升降块螺纹连接,所述第三丝杆一端穿过所述顶盖连接到所述第三伺服电机。
10.根据权利要求1所述的晶片压覆装置,其特征在于,所述转动盘下方设置有底座,所述转动盘与所述底座转动连接,所述底座下方设置有第四伺服电机,所述第四伺服电机连接到所述转动盘,用于驱动所述转动盘转动。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造