[发明专利]一种光学干涉断层成像系统轴向分辨率测量装置及测量方法

权利要求书

1.一种光学干涉断层成像系统轴向分辨率的测量方法，其特征在于，采用光学干涉断层成像系统轴向分辨率测量装置，其中所述方法包括：

将光学干涉断层成像系统的成像导管紧贴光学基准板上表面，其中，所述成像导管延伸方向垂直于所述光学基准板和光学参考板相交的棱，或者垂直于所述光学基准板和所述光学参考板延伸后相交的棱，成像导管探头置于所述光学基准板和所述光学参考板距离最近的位置处，即回撤起始位置；

运行光学干涉断层成像系统，将所述成像导管探头沿所述成像导管延伸方向，从所述光学基准板和所述光学参考板距离最近的位置处向所述光学基准板和所述光学参考板距离最远的位置处进行回撤扫描；

找出成像导管探头回撤过程中所述光学干涉断层成像系统获得的能够分辨出所述光学基准板下表面和所述光学参考板上表面的第一帧图像，确定获取所述第一帧图像的位置x1，确定所述第一帧图像中所述光学基准板上表面和所述光学基准板下表面像素序数差Δ12，确定所述第一帧图像中所述光学基准板下表面和所述光学参考板上表面像素序数差Δ23；根据如下公式获得所述光学干涉断层成像系统轴向分辨率AR：

AR＝h/(Δ12)×(Δ23)×n1

其中h为所述光学基准板厚度，n1为所述光学基准板折射率；

其中所述光学干涉断层成像系统轴向分辨率测量装置包括光学基准板和光学参考板，其中所述光学基准板和所述光学参考板之间的夹角为0.1度至0.5度。

2.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述光学基准板为玻璃，其厚度为0.6mm至1.5mm，折射率为1.3至1.9。

3.根据权利要求2所述的测量方法，其特征在于，所述光学参考板为玻璃，其厚度为0.6mm至1.5mm，折射率为1.3至1.9。

4.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述光学干涉断层成像系统轴向分辨率测量装置还包括光学基准座，所述光学基准座承载所述光学基准板和所述光学参考板。

5.根据权利要求4所述的测量方法，其特征在于，所述光学基准座包括底板和侧壁，所述光学参考板位于所述光学基准板和所述底板之间。

6.根据权利要求5所述的测量方法，其特征在于，所述侧壁支撑所述光学基准板。

7.根据权利要求5所述的测量方法，其特征在于，所述底板和所述侧壁共同支撑所述光学参考板。

8.根据权利要求5所述的测量方法，其特征在于，所述底板与所述光学基准板平行设置。

9.根据权利要求8所述的测量方法，其特征在于，所述底板上带有沿标尺，标尺延伸方向垂直于所述光学基准板和所述光学参考板相交的棱，或者垂直于所述光学基准板和所述光学参考板延伸后相交的棱。