[发明专利]一种用于连续镀膜的真空镀膜装置

权利要求书

1.一种用于连续镀膜的真空镀膜装置，包括真空镀膜腔室(1)，其特征在于，所述真空镀膜腔室(1)内设有沿镀膜方向依次设置的进料段(11)、镀膜段(12)、以及出料段(13)，所述进料段(11)和镀膜段(12)的连接处，以及镀膜段(12)和出料段(13)的连接处均设有用于间隔密封的门体结构(2)，所述进料段(11)连接有抽真空装置(3)，所述出料段(13)连接有充气装置(4)。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述进料段(11)包括沿镀膜输送方向依次设置的第一真空室段(111)和第二真空室段(112)，所述抽真空装置(3)包括第一真空泵(31)和第二真空泵(32)，所述第一真空泵(31)连接所述第一真空室段(111)，用以对第一真空室段(111)进行一级抽真空处理，所述第二真空泵(32)连接所述第二真空室段(112)，用以对第二真空室段(112)进行二级抽真空处理，二级抽真空处理的真空度高于一级抽真空处理的真空度，低于镀膜段(12)内的真空度。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述出料段(13)包括沿镀膜输送方向依次设置的第三真空室段(131)和第四真空室段(132)，所述充气装置(4)包括第一充气泵(41)和第二充气泵(42)，所述第一充气泵(41)与所述第三真空室段(131)连接，用以对第三真空室段(131)进行一级充气处理，所述第二充气泵(42)与所述第四真空室段(132)连接，用以对第四真空室段(132)进行进一步的充气处理，使得从镀膜段(12)内的真空度至第四真空室段(132)的真空度逐渐降低，第三真空室段(131)内的真空度高于第四真空室段(132)内的真空度。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述门体结构(2)包括门体(21)，用于密封所述真空镀膜腔室(1)，所述门体(21)设有多个，分别设于所述进料段(11)的入口处、出料段(13)的出口处、进料段(11)和镀膜段(12)的连接处、以及镀膜段(12)和出料段(13)的连接处，所述门体(21)在钢板前端送至时打开，钢板尾端离开后关闭。

5.根据权利要求4所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述门体结构(2)包括转轴(22)、转动块(23)以及驱动气缸(24)，所述驱动气缸(24)设于所述真空镀膜腔室(1)的外侧壁上，门体(21)的顶部连接所述转轴(22)，所述转轴(22)的一端贯穿所述真空镀膜腔室的侧壁连接所述转动块(23)，所述转动块(23)与所述驱动气缸(24)的活塞杆(242)连接，利用驱动气缸(24)的活塞杆(242)的伸缩，带动转动块(23)转动，驱使转轴(22)旋转，带动门体(21)摆动角度。

6.根据权利要求5所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述门体(21)的外表面设有多个连接块(211)，所述连接块(211)的顶部伸出所述门体(21)的顶部设置，所述转轴(22)穿过所述连接块(211)的顶部，与所述连接块(211)固定连接。

7.根据权利要求5所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述转轴(22)的两端部设有插接柱(221)，所述转动块(23)上设有插接孔，所述插接柱(221)插接在所述插接孔内，与所述转动块(23)过盈配合连接。

8.根据权利要求7所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述驱动气缸(24)的活塞杆(242)固定连接有连接柱(241)，所述转动块(23)上设有插接槽(231)，所述连接柱(241)插接在所述插接槽(231)内。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述转动块(23)上设有贯穿所述插接槽(231)设置的连接轴，且所述连接轴穿过所述连接柱(241)，与所述连接柱(241)可转动连接。