[发明专利]一种用于连续镀膜的真空镀膜装置

说明书

本发明公开了一种用于连续镀膜的真空镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室内设有沿镀膜方向依次设置的进料段、镀膜段、以及出料段，所述进料段和镀膜段的连接处，以及镀膜段和出料段的连接处均设有用于间隔密封的门体结构，所述进料段连接有抽真空装置，所述出料段连接有充气装置。本发明具有结构简单，密封性能强的优点，有效地解决了现有的镀膜生产线的真空镀膜装置由于连续不中断的上下料，容易导致外界的空气进入镀膜腔室内，破坏真空环境，导致镀膜效果降低的问题。

技术领域

本发明涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种用于连续镀膜的真空镀膜装置。

背景技术

在真空镀膜技术领域中，镀膜设备一般采用的镀膜装置多为连续镀膜装置或只能对部分板材进度镀膜处理的镀膜装置，随着科技的不断发展，企业的镀膜效率的需求也日益提高，能够连续进行镀膜处理的真空镀膜装置，相较于只能对部分板材进行镀膜处理的镀膜装置更加受到企业的青睐。

真空镀膜装置应用在镀膜生产线时，由于镀膜生产线的板材时不中断输送的，在镀膜的过程中，需要不断的打开真空镀膜腔室进行上料和下料，容置导致空气进入真空镀膜腔室内，破坏镀膜腔室的真空镀膜环境，影响板材的镀膜效果以及镀膜效率。

因此，有必要研究开发一种能够在镀膜上下料时，隔绝镀膜腔室内部，避免外界空气进入镀膜腔室，真空镀膜环境被破坏的真空镀膜装置，解决上述技术问题。

发明内容

本发明目的在于提供一种用于连续镀膜的真空镀膜装置，用以解决现有的镀膜生产线的真空镀膜装置由于连续不中断的上下料，容易导致外界的空气进入镀膜腔室内，破坏真空环境，导致镀膜效果降低的问题。

为了达到上述目的，本发明提供的一种用于连续镀膜的真空镀膜装置，具体实施方案如下：

一种真空镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室内设有沿镀膜方向依次设置的进料段、镀膜段、以及出料段，所述进料段和镀膜段的连接处，以及镀膜段和出料段的连接处均设有用于间隔密封的门体结构，所述进料段连接有抽真空装置，所述出料段连接有充气装置。

目前，现有的真空镀膜装置应用在镀膜生产线时，由于镀膜生产线的板材时不中断输送的，在镀膜的过程中，需要不断的打开真空镀膜腔室进行上料和下料，容置导致空气进入真空镀膜腔室内，破坏镀膜腔室的真空镀膜环境，影响板材的镀膜效果以及镀膜效率。

本发明的一种用于连续镀膜的真空镀膜装置，相对于现有技术，通过将真空镀膜腔室设置成沿镀膜方向依次设置的进料段、镀膜段以及出料段，在进料段上连接抽真空装置，在出料段连接充气装置，在进料段和镀膜段的连接处，镀膜段和出料段的连接处均设置用于间隔密封的门体结构，利用门体结构将进料段、镀膜段以及出料段分隔开来，在上料的过程中，真空镀膜腔室内除了进料段的之前的其余部分均不予外界空气接触，能够避免空气进入镀膜段内，上料后通过抽真空装置将进料段进行抽真空处理，使得镀膜段和进料段连通时，进料段内没有空气进入镀膜段内，避免镀膜段内存在空气，破坏真空镀膜环境，降低镀膜效果的情况发生；并在通过充气装置对出料段进行充气处理，使得出料段内的空气浓度接近或等于外界空气浓度，避免空气浓度差对镀膜处理后的板材造成影响或损坏的情况发生。有效地解决了现有的镀膜生产线的真空镀膜装置由于连续不中断的上下料，容易导致外界的空气进入镀膜腔室内，破坏真空环境，导致镀膜效果降低的问题。

作为本发明的进一步改进，所述进料段包括沿镀膜输送方向依次设置的第一真空室段和第二真空室段，所述抽真空装置包括第一真空泵和第二真空泵，所述第一真空泵连通所述第一真空室段，用以对第一真空室段进行一级抽真空处理，所述第二真空泵连通所述第二真空室段，用以对第二真空室段进行二级抽真空处理。