[发明专利]振动控制装置、曝光装置以及物品制造方法

权利要求书

1.一种振动控制装置，控制对象物体的振动，其特征在于，具有：

传感器，检测所述对象物体的位移、速度、加速度中的至少1个物理量；

自适应滤波器，根据由所述传感器检测到的所述物理量，生成用于降低所述振动的控制信号；以及

扬声器，输出与所述控制信号对应的控制音。

2.根据权利要求1所述的振动控制装置，其特征在于，

所述传感器包括多个加速度计，

所述多个加速度计中的每个加速度计检测所述对象物体的第1方向的平移运动中的加速度，

所述多个加速度计在与所述第1方向正交的第2方向上有间隔地安装于所述对象物体，

所述振动控制装置还具有：

模式变换部，根据由所述多个加速度计中的每个加速度计检测到的检测结果，求出表示所述第1方向的振动的第1振动模式，并将所述第1振动模式变换为第2振动模式，所述第2振动模式表示绕与所述第1方向及所述第2方向这二者正交的第3方向的振动；以及

处理部，根据由所述模式变换部得到的所述第2振动模式，更新所述自适应滤波器的参数。

3.根据权利要求1所述的振动控制装置，其特征在于，

所述振动控制装置还具有获取部，该获取部获取表示噪音的参照信号，

所述自适应滤波器根据由所述获取部获取的所述参照信号和由所述传感器检测到的所述物理量来生成所述控制信号。

4.一种对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，具有：

投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；以及

权利要求1至3中的任意一项所述的振动控制装置，控制构成所述投影光学系统的光学部件的振动。

5.一种对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，具有：

投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；以及

权利要求3所述的振动控制装置，控制构成所述投影光学系统的光学部件的振动，

所述获取部包括麦克风，

所述麦克风配置于从作为噪音源的送风机延伸至所述投影光学系统的供气管路的内部。

6.一种对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，具有：

投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；以及

权利要求3所述的振动控制装置，控制构成所述投影光学系统的光学部件的振动，

所述获取部包括检测位移、速度、加速度中的任意一个的检测器，

所述检测器配置于作为噪音源的送风机或者从所述送风机延伸至所述投影光学系统的供气管路。

7.一种物品制造方法，其特征在于，包括：

曝光工序，经由投影光学系统对基板进行曝光；以及

显影工序，对曝光后的所述基板进行显影，

从显影后的所述基板制造物品，

在所述曝光工序中，在输出与用于降低所述投影光学系统中包括的元件的振动的控制信号对应的控制音的状态下，进行所述基板的曝光，

所述控制信号是根据所述元件的位移、速度、加速度中的至少1个物理量的检测结果通过自适应滤波处理生成的。