[发明专利]振动控制装置、曝光装置以及物品制造方法

说明书

提供有利于降低对象物体的振动的技术。提供控制对象物体的振动的振动控制装置。振动控制装置具有：传感器，检测所述对象物体的位移、速度、加速度中的至少1个物理量；自适应滤波器，根据由所述传感器检测到的所述物理量，生成用于降低所述振动的控制信号；以及扬声器，输出与所述控制信号对应的控制音。

技术领域

本发明涉及振动控制装置、曝光装置以及物品制造方法。

背景技术

在曝光装置中，为了将微细的图案向基板上曝光，需要以严格的精度来控制照明系统、原版(掩模)、透镜投影光学系统以及直至基板的一系列相对位置关系。各个组件由结构体支撑，结构体由底座(mount)控制振动。另外，在曝光装置的腔室(chamber)内部和投影光学系统内部进行温度控制，在机械室中被调节了温度的空气通过供气管路被供给到腔室内部和投影光学系统内部。另外，还设置有腔室内部和投影光学系统内部的空气通过排气管路返回到机械室的循环机构。

为了供给该被调节了温度的空气并排气而使用风扇，但其产生的噪音使曝光装置各部分振动。例如，机械室和投影光学系统用管路连接，所以由风扇引起的噪音经由管路传递到投影光学系统内部，光学部件振动而光路摇摆，从而分辨率等装置性能可能降低。除此以外，由于从曝光装置的接口进入的噪音、由用于掩模搬送的机器人的驱动引起的噪音等各种原因，装置各部分振动，装置性能可能降低。另外，伴随曝光装置的高精细化，对这些振动的要求变得严格。

在专利文献1中，列举了降低曝光装置中的机械共振频率附近的噪音的各种对策。第1个对策是将产生曝光装置的机械共振频率附近的噪音的用于送风的多叶片式风扇(sirocco fan)改变为曝光装置的机械共振频率附近的噪音小的涡流风扇(turbo fan)、径流风扇(radial fan)。由此，由风扇引起的装置各部分的共振被降低。第2个对策是使用降低特定的频带的噪音的反应型消音器。该方法在声音的传递路径中形成共鸣部，能够利用声音的干涉而使噪音降低。第3个对策是对作为声音的传递路径的管路应用主动噪声控制。主动噪声控制一般对500Hz以下等低频率的噪音有效。第4个对策是在腔室内壁设置由玻璃棉等构成的吸音部件来吸收驻波等噪音。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-260279号公报

发明内容

专利文献1中记载的使用涡流风扇、径流风扇的方法虽然能够进行一定的噪音的降低，但效果是有限的。另外，反应型消音器仅对特定的频带有效，无法应用于宽的频带。另外，反应型消音器需要共鸣部，所以在空间上有制约的情况下应用困难。而且，反应型消音器应用于噪音的传递路径，所以需要传递路径变得明确，并且能够消音的空间限于设置有消音器的路径。使用主动噪声控制的方法能够解决作为上述反应型消音器的课题的频带的课题、空间上的制约，但另一方面，与反应型消音器同样地，需要传递路径变得明确。另外，在该方法中，因为使用扬声器等，所以即使在一部分的空间中噪音降低，也存在在其他空间中噪音增加的可能性。例如，在将扬声器连接到供气管路部的情况下，管路内部的噪音降低，另一方面，存在由于从扬声器背面发出的声音而使对象物体振动的可能性。

本发明的目的在于提供一种有利于降低对象物体的振动的技术。

根据本发明的第1侧面，提供一种振动控制装置，控制对象物体的振动，其特征在于，具有：传感器，检测所述对象物体的位移、速度、加速度中的至少1个物理量；自适应滤波器，根据由所述传感器检测到的所述物理量，生成用于降低所述振动的控制信号；以及扬声器，输出与所述控制信号对应的控制音。

根据本发明的第2侧面，提供一种对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，具有：投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；以及上述第1侧面所涉及的振动控制装置，控制构成所述投影光学系统的光学部件的振动。