[发明专利]工作台装置、供电机构和处理装置在审
申请号: | 202110140802.2 | 申请日: | 2021-02-02 |
公开(公告)号: | CN113327881A | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 武田聪 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67;C23C14/34;C23C14/50 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;刘芃茜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工作台 装置 供电 机构 处理 | ||
1.一种工作台装置,其能够在处理基片的处理装置的保持为真空的处理容器内保持基片,所述工作台装置的特征在于,包括:
工作台,其具有铜制的主体部和设置于所述主体部之上的静电吸盘,所述静电吸盘内置吸附电极并对基片进行吸附保持;
设置于所述工作台的下方的冷却部,其对所述工作台进行冷却;以及
供电机构,其从设置于所述工作台的下方的直流电源对所述吸附电极进行供电,
所述供电机构包括:
在所述工作台的外周彼此隔开间隔地设置的一对端子部,其具有分别与所述吸附电极的正极侧和负极侧连接的连接部;
具有一对金属棒的第1供电线,所述一对金属棒的一端分别连接到所述直流电源的正极侧和负极侧,向所述工作台侧延伸,且彼此隔开间隔地设置;
具有一对金属棒的第2供电线,所述一对金属棒的一端分别连接到所述一对端子部,且彼此隔开间隔地设置;以及
连接部,其将所述第1供电线的所述一对金属棒各自的另一端分别与所述第2供电线的所述一对金属棒各自的另一端连接。
2.如权利要求1所述的工作台装置,其特征在于:
所述第1供电线的所述一对金属棒从所述直流电源侧沿所述冷却部向所述工作台侧延伸。
3.如权利要求2所述的工作台装置,其特征在于:
所述冷却部包括:设置于所述工作台的下方的制冷机;以及支承所述工作台的铜制的冷冻导热体,其将所述制冷机的冷量传导到所述工作台,
所述第1供电线的所述一对金属棒沿所述制冷机和所述冷冻导热体延伸。
4.如权利要求1至3中任一项所述的工作台装置,其特征在于:
所述第1供电线的所述一端与所述直流电源的供电端子部连接。
5.如权利要求1至4中任一项所述的工作台装置,其特征在于:
所述连接部配置于所述工作台的正下方的位置。
6.如权利要求1至5中任一项所述的工作台装置,其特征在于:
所述第1供电线的所述一对金属棒和所述第2供电线的所述一对金属棒在表面具有绝缘覆盖物。
7.如权利要求1至6中任一项所述的工作台装置,其特征在于:
所述连接部具有绝缘遮罩,所述绝缘遮罩覆盖所述第1供电线的所述一对金属棒与所述第2供电线的所述一对金属棒的连接部位。
8.如权利要求1至7中任一项所述的工作台装置,其特征在于:
所述冷却部进行控制以使得所述工作台的冷却温度成为﹣173℃(100K)以下。
9.如权利要求1至8中任一项所述的工作台装置,其特征在于:
所述处理容器内保持为1×10-5Pa以下的高真空,能够对所述处理容器内供给处理用的气体。
10.一种供电机构,其特征在于:
从设置于工作台的下方的直流电源对设置于所述工作台的对基片进行吸附保持的静电吸盘的吸附电极进行供电,所述工作台在处理基片的处理装置的保持为真空的处理容器内保持基片,并能够被下方的冷却部冷却,
所述供电机构包括:
在所述工作台的外周彼此隔开间隔地设置的一对端子部,其具有分别与所述吸附电极的正极侧和负极侧连接的连接部;
具有一对金属棒的第1供电线,所述一对金属棒的一端分别连接到所述直流电源的正极侧和负极侧,向所述工作台侧延伸,且彼此隔开间隔地设置;
具有一对金属棒的第2供电线,所述一对金属棒的一端分别连接到所述一对端子部,且彼此隔开间隔地设置;以及
连接部,其将所述第1供电线的所述一对金属棒各自的另一端分别与所述第2供电线的所述一对金属棒各自的另一端连接。
11.如权利要求10所述的供电机构,其特征在于:
所述第1供电线的所述一对金属棒从所述直流电源侧沿所述冷却部向所述工作台侧延伸。
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