[发明专利]一种移动式平面打磨抛光方法及其装置在审
申请号: | 202110151067.5 | 申请日: | 2021-02-04 |
公开(公告)号: | CN112720110A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 王雄;张莉;王子舒;李琪;何亮达 | 申请(专利权)人: | 中铁宝桥集团有限公司 |
主分类号: | B24B7/00 | 分类号: | B24B7/00;B24B7/14;B24B47/20;B24B41/06;B24B47/12;B24B41/02;B24B27/00 |
代理公司: | 西安知诚思迈知识产权代理事务所(普通合伙) 61237 | 代理人: | 麦春明 |
地址: | 721004 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 移动式 平面 打磨 抛光 方法 及其 装置 | ||
1.一种移动式平面打磨抛光方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、选择定位基准面(1),在定位基准面(1)使用装夹定位机构(3)将移动式平面打磨抛光装置固定;
S2、调节横向进给机构(4)和纵向进给机构(5),使打磨机构(6)打磨端与待处理表面(2)最高点不接触;
S3、打开打磨机构(6)电源开关,操作调节纵向进给机构(5),使打磨机构(6)打磨端与待处理表面(2)最高点接触;
S4、操作调节横向进给机构(4),使打磨机构(6)打磨端在待处理表面(2)往复运行,去掉最高点;
S5、根据待处理表面(2)打磨量,使用横向进给机构(4)逐渐进给;
S6、测量打磨后表面状态,重复步骤S4、步骤S5,直至待处理表面(2)打磨后表面状态满足检测要求;
S7、以步骤S6测量检测合格的基准面为新的定位基准面(1),在新的定位基准面(1)固定装置,重复步骤S2至步骤S6,手持操作,进行下一工位待处理表面(2)的打磨操作。
2.根据权利要求1所述的一种移动式平面打磨抛光方法,其特征在于:步骤S1包括选择定位基准面(1),以定位基准面(1)为基准,在工件的待处理表面(2)根据打磨行程放置装置,放置完成后给装置的装夹定位机构(3)通磁,将放置整体吸附固定在待处理表面(2)工件旁边的定位基准面(1)。
3.根据权利要求1所述的一种移动式平面打磨抛光方法,其特征在于:步骤S2包括调节横向进给机构(4)的横向进给手轮(404)和纵向进给机构(5)的纵向进给手轮(504),调整打磨机构(6)的打磨砂轮(603)位置,使打磨机构(6)的圆盘形打磨砂轮(603)下圆形水平端面置于待处理表面(2)正上方,且与待处理表面(2)最高点不接触;
步骤S3包括打开打磨机构(6)驱动电机(602)的电源开关,操作调节纵向进给机构(5)的纵向进给手轮(504),使打磨机构(6)圆盘形的打磨砂轮(603)下圆形水平端面与待处理表面(2)最高点接触。
4.根据权利要求1所述的一种移动式平面打磨抛光方法,其特征在于:步骤S4包括操作调节横向进给机构(4)的横向进给手轮(404),使打磨机构(6)圆盘形的打磨砂轮(603)下圆形水平端面在待处理表面(2)往复运行,去掉最高点;
步骤S5包括根据待处理表面(2)打磨量,使用横向进给机构(4)的横向进给手轮(404)逐渐进给,使打磨机构(6)圆盘形的打磨砂轮(603)下圆形水平端面在待处理表面(2)逐渐进给,打磨抛光待处理表面(2)。
5.如权利要求1-4所述一种移动式平面打磨抛光方法所使用的移动式平面打磨抛光装置,其特征在于:移动式平面打磨抛光装置包括装夹定位机构(3),装夹定位机构(3)固连横向进给机构(4),横向进给机构(4)的进给末端固连纵向进给机构(5),纵向进给机构(5)的进给末端固连打磨机构(6)。
6.根据权利要求5所述移动式平面打磨抛光装置,其特征在于:所述装夹定位机构(3)为磁吸式固定机构。
7.根据权利要求5所述移动式平面打磨抛光装置,其特征在于:其特征在于:所述打磨机构(6)采用驱动电机(602)驱动圆柱形状的打磨砂轮(603)打磨,利用圆柱形状打磨砂轮(603)的轴端圆形砂轮端面用作待处理表面(2)的打磨端面立式打磨。
8.根据权利要求5所述移动式平面打磨抛光装置,其特征在于:其特征在于:所述横向进给机构(4)和纵向进给机构(5)分别通过丝杠传动,导轨和导轨滑块直线导向实现打磨机构(6)的纵向和横向进给位移。
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