[发明专利]一种抗电痕腐蚀ADSS光缆在审

专利信息
申请号: 202110152625.X 申请日: 2021-02-03
公开(公告)号: CN112904509A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 徐世坤 申请(专利权)人: 徐世坤
主分类号: G02B6/44 分类号: G02B6/44;C08L23/06;C08L63/00;C08K9/04;C08K9/06;C08K3/04;C08K5/5415
代理公司: 合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙) 34126 代理人: 晋圣智
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 抗电痕 腐蚀 adss 光缆
【权利要求书】:

1.一种抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,包括:中间加强件、紧套光纤、阻水层、内护套、非金属加强件和外护套;其中,若干个紧套光纤设置在外护套内侧并与中间加强件绞合,紧套光纤和外护套之间依次设置阻水层、内护套、非金属加强件;所述外护套的原料按重量份包括:80-100份聚乙烯树脂、30-40份环氧树脂、10-20份二茂铁接枝的氧化石墨烯、10-15份硅酸烷基酯、10-20份填料、1-5助剂。

2.根据权利要求 1所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,二茂铁接枝的氧化石墨烯的制备工艺包括:将二茂铁甲酸、二氯甲烷、无水吡啶、草酰氯混合均匀,升温至回流温度,反应5-6h,得到二茂铁甲酰氯;将二茂铁甲酰氯、氧化石墨烯分散在二氯甲烷中,滴加三乙胺,升温至50-60℃反应18-20h得到二茂铁接枝的氧化石墨烯;

优选地,二茂铁甲酸、二氯甲烷、无水吡啶、草酰氯的重量体积比g:ml:ml:ml为1-2:10-20:0.1-0.2:1-1.5。

3.根据权利要求2所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,二茂铁接枝的氧化石墨烯的制备过程中,二茂铁甲酰氯、氧化石墨烯的重量比为10:2-4;

优选地,二茂铁甲酰氯、二氯甲烷、三乙胺的质量体积比g:ml:ml为1-1.2:10:0.1-0.2;

优选地,氧化石墨烯为胺化氧化石墨烯和/或烷基化氧化石墨烯。

4.根据权利要求3所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,胺化氧化石墨烯的制备工艺为:将氧化石墨烯分散在去离子水中,调节pH至8-9,加入乙二胺,升温至60℃,在微波条件下反应8-10h。

5.根据权利要求4所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,微波功率为800-1500W;优选地,氧化石墨烯和乙二胺的重量比为10:0.5-2。

6.根据权利要求3所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,烷基化氧化石墨烯的制备工艺为:将氧化石墨烯中分散于N,N-二甲基甲酰胺中,加入烷基偶联剂,升温至80-90℃微波条件下反应4-6h,得到烷基化氧化石墨烯。

7.根据权利要求6所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,微波功率为800-1500W;

优选地,氧化石墨烯和烷基偶联剂的重量比为10:1-3;优选地,烷基偶联剂为氨基硅烷偶联剂;优选地,烷基偶联剂为KH-550。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,硅酸烷基酯为原硅酸四甲酯、原硅酸四乙酯、原硅酸四丁酯中的一种或两种以上混合物。

9.根据权利要求8所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,硅酸烷基酯为原硅酸四乙酯。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的抗电痕腐蚀ADSS光缆,其特征在于,填料为炭黑、白炭黑、纳米碳酸钙中的一种或两种以上混合物。

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