[发明专利]一种靶材喷砂后防氧化的方法

说明书

本发明提供了一种靶材喷砂后防氧化的方法，所述方法包括以下步骤：将靶材的非溅射面进行喷砂处理，得到喷砂靶材；将喷砂靶材进行清洗，然后采用压缩气体进行吹扫干燥，得到具有干燥喷砂面的靶材。本发明所述方法通过对靶材非溅射面进行喷砂及清洗处理，再利用喷砂面的特性采用压缩气体对喷砂面进行吹扫，利用高压气流加速靶材表面液体的挥发，干燥速率快，无液体残留，可有效防止靶材喷砂面的氧化，提高靶材生产的合格率；所述方法操作简单，处理速度快，成本较低，具有广阔的应用前景。

技术领域

本发明属于靶材制备技术领域，涉及一种靶材喷砂后防氧化的方法。

背景技术

随着半导体行业的快速发展，镀膜材料作为半导体电子器件制造的重要材料，其需求量也日益增加。靶材作为一种重要的镀膜材料，在集成电路、平面显示、太阳能、光学器件等领域具有广泛的应用，其主要制备方法为物理气相沉积法(PVD)，主要包括溅射镀膜、真空蒸镀、等离子体镀膜等，其中最常用的为溅射镀膜法。

由于在溅射镀膜过程中靶材一般不是单独使用，而是以靶材组件的形式，靶材组件通常由靶材和背板通过焊接构成，为提高焊接强度，需要对靶材和背板的待焊接面进行提前处理，其中经常采用的方式是喷砂处理，提高其表面粗糙度，然而由于喷砂面的特性，经过清洗处理后的喷砂面上往往会有清洗液残留，且在干燥过程中容易使其发生氧化，影响靶材的表观性能及后续使用，造成靶材产品不良率的提高。

CN 105331938A公开了一种靶材组件的制作方法，包括：提供靶材，所述靶材为钨硅材料；对所述靶材的待焊接面进行喷砂处理；在喷砂处理后，对所述靶材进行冲洗处理；在对所述靶材进行冲洗处理之后，对所述靶材的待焊接面进行活化处理；然后利用化学镀工艺在所述靶材的待焊接面上形成金属镀层；利用所述金属镀层将所述靶材与背板焊接在一起；该方法中对靶材喷砂、冲洗处理后并未涉及到干燥步骤，而是直接进行活化与焊接，对于干燥阶段容易造成的氧化也未涉及。

CN 110670083A公开了一种靶材的清洗方法，该方法包括如下步骤：靶材表面涂覆清洁剂，然后进行刷洗；超声波清洗刷洗后的靶材；使用惰性气体吹干超声波清洗后靶材表面的水分，然后进行真空干燥处理，得到清洗完成的靶材。该方法基于靶材表面清洁度的需要进行清洗处理，对其之前是否进行喷砂处理并未涉及，对喷砂面的清洗、干燥的要求并未明确。

综上所述，对于靶材喷砂处理后清洗、干燥操作，还需要选择合适的工艺，避免因表面氧化对靶材质量造成影响，保证靶材的良品率。

发明内容

针对现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种靶材喷砂后防氧化的方法，所述方法对靶材非溅射面进行喷砂处理后，对喷砂面进行清洗，并采用吹扫干燥的方式快速去除喷砂面容易残留的清洗液，防止传统方法干燥时容易造成喷砂面氧化而影响靶材质量的问题，降低靶材生产的不良率。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

本发明提供了一种靶材喷砂后防氧化的方法，所述方法包括以下步骤：

(1)将靶材的非溅射面进行喷砂处理，得到喷砂靶材；

(2)将步骤(1)得到的喷砂靶材进行清洗，然后采用压缩气体进行吹扫干燥，得到具有干燥喷砂面的靶材。

本发明中，对于靶材的加工制作，在靶材成型后根据使用需要，先对非溅射面进行喷砂处理，增加表面粗糙度，便于后续与背板的焊接，为保证靶材的纯度，喷砂后的靶材表面，尤其是喷砂面进行清洗处理，而由于喷砂面的特性，容易残留清洗液，若采用自然干燥方式干燥速率较慢，容易造成喷砂面发生氧化或者残留液体痕迹，影响靶材的纯度与洁净度，因此本发明采用压缩气体吹扫干燥的方式，利用高压气流加速靶材表面液体的挥发，快速完成干燥，保证靶材的喷砂面不会发生氧化，降低靶材生产的不良率；所述方法操作简单，处理速度快，成本较低，具有广阔的应用前景。