[发明专利]辐射制冷膜及其制品

权利要求书

1.一种辐射制冷膜，其特征在于，所述辐射制冷膜包括层叠设置的载体层、反射层和发射层，所述发射层为所述辐射制冷膜的入光侧，所述发射层的材料为含C-F键的聚合物，所述载体层的材料为含C-C键和/或C-O键的聚合物，所述载体层在120℃下放置30min后的横向方向的热收缩率≤2％、纵向方向的热收缩率≤3％，所述辐射制冷膜的厚度为50μm-170μm，其中，所述发射层的厚度占20％-90％。

2.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述反射层设置于所述载体层和所述发射层之间时，所述辐射制冷膜的厚度为55μm-170μm。

3.根据权利要求2所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层与所述载体层的厚度之比为1:2-8:1。

4.根据权利要求3所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层的厚度为25μm-120μm。

5.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述载体层设置于所述反射层与所述发射层之间时，所述辐射制冷膜的厚度为50μm-125μm。

6.根据权利要求5所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层与所述载体层的厚度之比为3:10-22:3。

7.根据权利要求6所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层的厚度为15μm-110μm。

8.根据权利要求1-7任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层的材料包括含氟树脂；

及/或，所述载体层的材料包括聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚碳酸酯中的至少一种；

及/或，所述反射层的材料包括金属、合金中的至少一种。

9.根据权利要求1-7任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述载体层用于承载所述反射层的表面的表面能大于或等于40mN/m。

10.根据权利要求1-7任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述载体层和所述反射层之间还设置有聚合物涂层，所述聚合物涂层的表面能大于或等于40mN/m，所述聚合物涂层的厚度为3nm-200nm。

11.根据权利要求10所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述载体层和所述聚合物涂层之间的折射率差值的绝对值大于或等于0.05。

12.根据权利要求1-7任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述发射层的入光面设置有压花结构。

13.一种包括辐射制冷膜的制品，其特征在于，所述制品包括基体以及设置于所述基体上的如权利要求1-12任一项所述的辐射制冷膜，所述辐射制冷膜中的远离发射层的一面通过胶粘剂层与基体连接。

14.根据权利要求13所述的包括辐射制冷膜的制品，其特征在于，所述基体包括金属基体、陶瓷基体、半导体基体、塑料基体、玻璃基体、橡胶基体、沥青基体、水泥基体、纺织物基体中的至少一种。

15.根据权利要求13所述的包括辐射制冷膜的制品，其特征在于，所述制品为辐射制冷防水卷材，所述基体为石油沥青纸胎油毡、石油沥青玻纤胎卷材、铝箔面卷材、SBS改性沥青防水卷材、APP改性沥青防水卷材、三元乙丙卷材、聚氯乙烯卷材、氯化聚乙烯卷材、橡胶共混卷材、TPO防水卷材中的一种。

16.根据权利要求13所述的包括辐射制冷膜的制品，其特征在于，所述制品为辐射制冷金属板，所述基体为铝合金金属板、镀锌金属板、镀锡金属板、复合钢金属板、彩色涂层钢金属板中的一种。