[发明专利]一种导流锥及发射平台在审
申请号: | 202110157034.1 | 申请日: | 2021-02-04 |
公开(公告)号: | CN112780445A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 彭小波;郑立伟;李满溢;陈亮;黄茜 | 申请(专利权)人: | 北京星际荣耀空间科技股份有限公司;北京星际荣耀科技有限责任公司 |
主分类号: | F02K9/60 | 分类号: | F02K9/60;F41F3/04 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 刘林涛 |
地址: | 100032 北京市西城*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 导流 发射 平台 | ||
1.一种导流锥,其特征在于,包括:
导流部(2),由所述导流锥的顶面(3)至底面(4)倾斜设置;
分隔部(1),由所述导流部(2)外表面延伸而成,并适于将所述导流部(2)分隔成至少两个导流区域。
2.根据权利要求1所述的导流锥,其特征在于,所述导流部(2)由所述导流锥的顶面(3)至底面(4)呈弧面形或楔形设置。
3.根据权利要求2所述的导流锥,其特征在于,由所述导流锥的顶面(3)至底面(4),呈弧面形设置的所述导流部(2)与水平面的夹角逐渐减小。
4.根据权利要求1所述的导流锥,其特征在于,所述分隔部(1)由所述导流部(2)外表面沿高度方向延伸而成。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的导流锥,其特征在于,所述导流部(2)绕中轴线环绕一周而成,并沿顶面(3)至底面(4)的高度方向上直径逐渐增大。
6.根据权利要求5所述的导流锥,其特征在于,由所述导流部(2)的中轴线沿水平方向向外延伸形成至少两个所述分隔部(1)。
7.根据权利要求6所述的导流锥,其特征在于,两相邻所述分隔部(1)之间呈夹角α设置,其中,0°<α≤180°。
8.根据权利要求7所述的导流锥,其特征在于,多个所述分隔部(1)在所述导流锥的顶面(3)呈高度平齐状态设置。
9.根据权利要求1-4任意一项所述的导流锥,其特征在于,所述导流锥表面包覆有防热涂层。
10.一种发射平台,其特征在于,包括如上述权利要求1-9任意一项所述的导流锥。
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