[发明专利]一种高真空维持的液氦杜瓦

权利要求书

1.一种高真空维持的液氦杜瓦，其特征在于，所述液氦杜瓦包括真空外腔体、液氦腔体和液氦径管；

所述液氦腔体设置在所述真空外腔体的内部，所述液氦腔体与所述真空外腔体之间为真空夹层；

所述液氦径管的一端与所述液氦腔体的内部连通，所述液氦径管的另一端与所述真空外腔体的外部连通；

所述真空外腔体的外表面上设置有真空电接头和抽真空口，所述真空电接头延伸至所述真空夹层，所述抽真空口与所述真空夹层连通；

所述真空外腔体的内表面上至少设置有一个吸气装置，所述吸气装置与所述真空电接头电性连接；

所述液氦腔体的外表面上至少设置有一个吸附装置，所述吸附装置中内置有吸附介质，且所述吸附装置附带有加热装置，所述加热装置与所述真空电接头电性连接。

2.根据权利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述吸气装置为非蒸发型吸气器，所述非蒸发型吸气器内置有非蒸散型吸气剂。

3.根据权利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述吸附装置为活性炭吸附器，所述吸附介质为粘接或放置在所述活性炭吸附器内部的活性炭。

4.根据权利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述真空外腔体的外表面上设置有抽真空法兰，所述抽真空口设置在所述抽真空法兰中。

5.根据权利要求4所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述液氦杜瓦还包括密封法兰，所述密封法兰与所述抽真空法兰相连接并密封所述抽真空口。

6.根据权利要求5所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述密封法兰与所述抽真空法兰之间设置有O形密封圈。

7.根据权利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述真空夹层中设置有包围所述液氦腔体的多块冷屏。

8.根据权利要求7所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述多块冷屏包括在所述液氦腔体与所述真空外腔体之间依次设置的第一冷屏、第二冷屏和第三冷屏，其中：

所述第一冷屏为30K冷屏；

所述第二冷屏为77K冷屏，且所述77K冷屏上设置有多层绝热；

所述第三冷屏为200K冷屏，且所述200K冷屏上设置有多层绝热。

9.根据权利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述真空外腔体为300K真空外腔体。

10.根据权利要求1所述的液氦杜瓦，其特征在于，所述液氦腔体为4K液氦腔体。