[发明专利]一种高真空维持的液氦杜瓦

说明书

本发明公开了一种高真空维持的液氦杜瓦，液氦杜瓦包括真空外腔体、液氦腔体和液氦径管；真空外腔体的外表面上设置有真空电接头和抽真空口，真空电接头延伸至真空夹层，抽真空口与真空夹层连通；真空外腔体的内表面上至少设置有一个吸气装置，吸气装置与真空电接头电性连接；液氦腔体的外表面上至少设置有一个吸附装置，吸附装置中内置有吸附介质，且吸附装置附带有加热装置，加热装置与真空电接头电性连接。在本发明实施例中，所述液氦杜瓦能长时间维持高真空度，能达到很好的绝热效果，能长期保持低挥发率，具有很好的实用性。

技术领域

本发明涉及液氦杜瓦结构技术领域，具体而言，涉及一种高真空维持的液氦杜瓦。

背景技术

液氦杜瓦常应用于储运液氦，其主要功能是确保杜瓦在储运过程中，能保持极低的液氦挥发率，即每24小时的挥发率须小于1％；因此，液氦杜瓦需要有良好的绝热性能，一般通过降低辐射换热、降低导热以及降低对流换热等方式来降低漏热，使液氦杜瓦达到要求。

在液氦杜瓦中，真空外腔体和液氦腔体之间为真空夹层，真空夹层里面有冷屏、多层绝热、热连接管路和悬挂零部件等，通过装配和/或焊接等形式组装在一起；真空夹层内需要持续保持高真空，即低于1.0*10e^-3Pa，才能达到绝热的目的；真空夹层的真空度越高，相应绝热效果越好，有一些液氦杜瓦在运行若干时间后，会出现真空度下降和挥发率上升的问题，主要原因是：真空夹层内的材料持续放气，而且外部环境会向真空夹层的内部缓慢泄露氦气和氢气，这些气体无法冷凝吸附在液氦腔体的外表面上，导致真空夹层内置的气体吸附器很快达到饱和，引起真空变差。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足，本发明提供了一种高真空维持的液氦杜瓦，所述液氦杜瓦能长时间维持高真空度，能达到很好的绝热效果，能长期保持低挥发率，具有很好的实用性。

相应的，本发明实施例提供了一种高真空维持的液氦杜瓦，所述液氦杜瓦包括真空外腔体、液氦腔体和液氦径管；

所述液氦腔体设置在所述真空外腔体的内部，所述液氦腔体与所述真空外腔体之间为真空夹层；

所述液氦径管的一端与所述液氦腔体的内部连通，所述液氦径管的另一端与所述真空外腔体的外部连通；

所述真空外腔体的外表面上设置有真空电接头和抽真空口，所述真空电接头延伸至所述真空夹层，所述抽真空口与所述真空夹层连通；

所述真空外腔体的内表面上至少设置有一个吸气装置，所述吸气装置与所述真空电接头电性连接；

所述液氦腔体的外表面上至少设置有一个吸附装置，所述吸附装置中内置有吸附介质，且所述吸附装置附带有加热装置，所述加热装置与所述真空电接头电性连接。

可选的实施方式，所述吸气装置为非蒸发型吸气器，所述非蒸发型吸气器内置有非蒸散型吸气剂。

可选的实施方式，所述吸附装置为活性炭吸附器，所述吸附介质为粘接或放置在所述活性炭吸附器内部的活性炭。

可选的实施方式，所述真空外腔体的外表面上设置有抽真空法兰，所述抽真空口设置在所述抽真空法兰中。

可选的实施方式，所述液氦杜瓦还包括密封法兰，所述密封法兰与所述抽真空法兰相连接并密封所述抽真空口。

可选的实施方式，所述密封法兰与所述抽真空法兰之间设置有O形密封圈。

可选的实施方式，所述真空夹层中设置有包围所述液氦腔体的多块冷屏。

可选的实施方式，所述多块冷屏包括在所述液氦腔体与所述真空外腔体之间依次设置的第一冷屏、第二冷屏和第三冷屏，其中：

所述第一冷屏为30K冷屏；

所述第二冷屏为77K冷屏，且所述77K冷屏上设置有多层绝热；