[发明专利]一种用于光伏板的气浮式高效镀膜设备在审
申请号: | 202110160838.7 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN113136566A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 刘仁兴 | 申请(专利权)人: | 刘仁兴 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/02;C23C16/56;C23C16/52 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 光伏板 气浮式 高效 镀膜 设备 | ||
本发明公开了一种用于光伏板的气浮式高效镀膜设备,属于光伏板镀膜加工领域,一种用于光伏板的气浮式高效镀膜设备,包括设备箱体,设备箱体上端自左至右分为前处理区、镀膜区和后处理区,前处理区、镀膜区和后处理区内均安装有一对相匹配的气浮轨道组件,可以通过气浮轨道组件将光伏裸板进行气浮式输送,配合镀膜板、反向气撑板和气体控制机构的相互配合,有效实现对光伏裸板进行覆膜,气体镀膜的方式在提高镀膜均匀度的同时,能够预先将粘接在光伏裸板表面上的杂质吹落,提高镀膜时的洁净度,提高镀膜质量,有效降低光伏裸板镀膜时的工作环境的要求,降低投入成本,提高光伏裸板镀膜的经济效益。
技术领域
本发明涉及光伏板镀膜加工领域,更具体地说,涉及一种用于光伏板的气浮式高效镀膜设备。
背景技术
随着现代科技的不断进步,太阳能转化技术不断成熟,太阳能的利用也越来越频繁。光伏发电是利用半导体界面的光生伏特效应而将光能直接转变为电能的一种技术。主要由太阳电池板(组件)、控制器和逆变器三大部分组成,主要部件由电子元器件构成。太阳能电池经过串联后进行封装保护可形成大面积的太阳电池组件,再配合上功率控制器等部件就形成了光伏发电装置。
太阳能电池板又称光伏板,是通过吸收太阳光,将太阳辐射能通过光电效应或者光化学效应直接或间接转换成电能的装置。目前,80%以上的光伏板是由晶体硅材料制备而成的,制备高效率、低成本的晶体硅太阳能电池对于大规模利用太阳能发电有着十分重要的意义。镀膜是制备高效晶体硅太阳能电池的重要步骤之一,光伏板镀膜能够有效降低其的太阳光折射率,提高其的转换效率。
在较大的太阳能发电站中,会使用表面积较大的光伏板,易提高电能的转换量,为提高光伏板表面的镀膜质量,这类光伏板多采用原子层沉积法进行镀膜。但是现有的利用原子层沉积法镀膜的设备多为真空镀膜设备,需要将光伏板放置在装置栏内,再将其投入反应器内进行沉积镀膜,不易保证光伏板镀膜前的表面洁净度,影响光伏板的覆膜质量,并且对镀膜环境要求较高,投入成本较大,降低光伏板镀膜的经济效益。
发明内容
1.要解决的技术问题
针对现有技术中存在的问题,本发明的目的在于提供一种用于光伏板的气浮式高效镀膜设备,可以通过气浮轨道组件将光伏裸板进行气浮式输送,配合镀膜板、反向气撑板和气体控制机构的相互配合,有效实现对光伏裸板进行覆膜,气体镀膜的方式在提高镀膜均匀度的同时,能够预先将粘接在光伏裸板表面上的杂质吹落,提高镀膜时的洁净度,提高镀膜质量,有效降低光伏裸板镀膜时的工作环境的要求,降低投入成本,提高光伏裸板镀膜的经济效益。
2.技术方案
为解决上述问题,本发明采用如下的技术方案。
一种用于光伏板的气浮式高效镀膜设备,包括设备箱体,所述设备箱体上端自左至右分为前处理区、镀膜区和后处理区,所述前处理区、镀膜区和后处理区内均安装有一对相匹配的气浮轨道组件,所述设备箱体上端固定安装有一对处理板,两个处理板分别位于前处理区和镀膜区,所述设备箱体上端固定安装有镀膜板,所述镀膜板位于镀膜区,所述设备箱体上端固定连接有位于镀膜板上侧的反应罩,所述反应罩下端固定连接有与镀膜板相配的反向气撑板,所述反应罩左右两端均固定连接有与处理板相匹配的防尘罩;
所述镀膜板上端开设有多个回气长孔,所述镀膜板内开设有与回气长孔呈间隔设置的均气腔,所述镀膜板上端开设有多个与均气腔相接通的分气孔,所述镀膜板下端固定连接有与均气腔相接通的接气管;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于刘仁兴,未经刘仁兴许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110160838.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有空间调节功能的接线盒
- 下一篇:一种基于微电网技术的电源线
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的