[发明专利]掩模版清洗液及掩模版的清洗方法在审
| 申请号： | 202110160957.2 | 申请日： | 2021-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN113009779A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 阳超;司继伟;杜武兵;雷蒙;陈德浇 | 申请（专利权）人： | 深圳市路维光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 刘燚 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模版 清洗 方法 | ||
1.掩模版清洗液，其特征在于，包括非离子表面活性剂、脂肪酸酯和水，所述非离子表面活性剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧丙烯醚中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的掩模版清洗液，其特征在于，所述非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚，所述脂肪醇聚氧乙烯醚具有如下通式：R1O(CH2CH2O)nH；
其中，R1选自碳原子数为10～15的烃基，n为5～15的整数。
3.根据权利要求2所述的掩模版清洗液，其特征在于，R1选自碳原子数为12～14的烃基。
4.根据权利要求1所述的掩模版清洗液，其特征在于，所述脂肪酸酯具有如下通式：R2COOR3；
其中，R2选自碳原子数为10～20的烃基，R3选自碳原子数为1～5的烃基。
5.根据权利要求4所述的掩模版清洗液，其特征在于，R2选自碳原子数为12～18的烃基。
6.根据权利要求1至5任一项所述的掩模版清洗液，其特征在于，包括4～8体积份的所述脂肪醇聚氧乙烯醚、2～4体积份的所述脂肪酸酯和400～600体积份的所述水。
7.掩模版的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：采用权利要求1至6任一项所述的掩模版清洗液对所述掩模版进行清洗。
8.根据权利要求7所述的清洗方法，其特征在于，所述掩模版在清洗前使用超纯水进行预洗并干燥。
9.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，所述超纯水以溢流方式进行所述预洗。
10.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，所述掩模版的表面设有抗指纹镀层。
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