[发明专利]掩模版清洗液及掩模版的清洗方法

说明书

本发明公开了掩模版清洗液及掩模版的清洗方法。该掩模版清洗液包括非离子表面活性剂、脂肪酸酯和水，非离子表面活性剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧丙烯醚中的至少一种。根据本申请实施例的掩模版清洗液，至少具有如下有益效果：本方案以脂肪醇聚氧乙烯醚和/或脂肪醇聚氧丙烯醚作为表面活性剂，有效降低掩模版表面的张力；同时辅以脂肪酸酯作为润湿分散剂降低表面的电子活跃度从而使整体呈现相对稳定的态势。特定结构非离子表面活性剂的乳化能力与脂肪酸酯的稳定能力相互配合，将掩模版表面的雾状油污乳化成小颗粒后，配合清洗工具的擦拭，能够实现高效的清洁，并且不会对掩模版本身的功能造成损坏，不会破坏镀层的疏水疏油特性。

技术领域

本申请涉及光刻技术领域，尤其是涉及掩模版清洗液及掩模版的清洗方法。

背景技术

掩膜版(Mask/Photomask，也称“光刻掩膜版”、“光掩膜版”、“光罩”)是含有精细电子线路图像的精密镀膜基板，是电子产品制造过程中的核心部件，其作用是将设计者的电路图形通过光刻的方式转移到下游产品所用的玻璃基板或半导体晶圆等不同材质的电子材料上，然后进行后续制程，直至封装、测试合格后成为最终产品。掩膜版是光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版上的任何缺陷都会直接影响最终制品的优品率。

目前，掩膜版在光刻过程中所采用的曝光工艺一般为接触式曝光工艺，即让掩膜版与产品进行表面的直接接触。然而，这种曝光工艺会导致掩膜版表面容易出现表观异常，如脏污、光刻胶粘连、手指印、刮划伤、静电击伤等，影响使用良品率和效率的同时也降低了掩膜版的使用寿命。为此，部分掩膜版采用真空镀AF(Anti-Fingerprint，抗指纹)膜层的方式，来尽可能地规避以上各项异常的出现，从而延长掩膜版的使用寿命。

但是，在采用有机氟化物真空镀AF膜层时，掩模版的表面会均匀残留一部分有机氟化物，表观上呈现为肉眼可见的雾状油污。除此之外，由于AF镀层的材质和结构的特殊性，环境中的灰尘等物质容易被粘附在其表面。这些现象会影响掩膜版的透光率，对产品本身的功能造成巨大影响。但常规清洗方法清洗时，非但无法有效去除，反而会造成AF膜层的损伤，进而影响掩模版的功能。因此，有必要提供能对上述掩模版进行有效清洗的清洗液。

发明内容

本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种能够有效清洗雾状油污等的掩模版清洗液及掩模版的清洗方法。

本申请的第一方面，提供掩模版清洗液，该掩模版清洗液包括非离子表面活性剂、脂肪酸酯和水，非离子表面活性剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧丙烯醚中的至少一种。

根据本申请实施例的掩模版清洗液，至少具有如下有益效果：

本方案以脂肪醇聚氧乙烯醚和/或脂肪醇聚氧丙烯醚作为表面活性剂，有效降低掩模版表面的张力；同时辅以脂肪酸酯作为润湿分散剂降低表面的电子活跃度从而使整体呈现相对稳定的态势。特定结构非离子表面活性剂的乳化能力与脂肪酸酯的稳定能力相互配合，将掩模版表面的雾状油污乳化成小颗粒后，配合清洗工具的擦拭，能够实现高效的清洁，并且不会对掩模版本身的功能造成损坏，不会破坏镀层的疏水疏油特性。

在本申请的一些实施方式中，非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚，该脂肪醇聚氧乙烯醚具有如下通式：R¹O(CH₂CH₂O)_nH；

其中，R¹选自碳原子数为10～15的烃基，n为5～15的整数。

脂肪醇聚氧乙烯醚的通式中，R¹表示脂肪醇聚氧乙烯醚中与聚乙二醇缩合的脂肪醇基团，n表示脂肪醇聚氧乙烯醚中聚乙二醇的聚合度。