[发明专利]薄膜厚度的测试方法、测试系统、存储介质及电子设备

权利要求书

1.一种薄膜厚度的测试方法，所述薄膜包括图案化膜层和位于所述图案化膜层表面的待测膜层，所述图案化膜层包括多层堆叠分布的子膜层，各所述子膜层中至少有两层所述子膜层相互交叉，且在平行于所述待测膜层的方向上互不分离，其特征在于，所述测试方法包括：

收集第一光谱，以得到所述图案化膜层的参数；

调节所述第一光谱中所述图案化膜层的参数，并锁定所述图案化膜层的参数，以形成目标薄膜；

检测所述目标薄膜的光谱，得到第二光谱；

根据所述第二光谱确定所述待测膜层的厚度；

形成参考薄膜，所述参考薄膜包括参考膜层和位于所述参考膜层表面的待测试膜层，所述参考膜层包括多个子材料层，各所述子材料层均与所述待测试膜层平行分布；所述子材料层的数量与所述子膜层的数量相等，且各所述子材料层的材料与各所述子膜层的材料一一对应相同；

收集第三光谱，以得到所述参考膜层的参数；

根据所述参考膜层的参数调节所述第一光谱中所述图案化膜层的参数，以使所述图案化膜层的参数与所述参考膜层的参数一致。

2.根据权利要求1所述的测试方法，其特征在于，所述调节所述第一光谱中所述图案化膜层的参数，并锁定所述图案化膜层的参数，以形成目标薄膜，包括：

根据所述薄膜的制程信息确定各所述子膜层的材料对应的参数，在相互交叉的两层子膜层中，一所述子膜层的参数为第一参数，另一所述子膜层的参数为第二参数；

在所述第一参数和所述第二参数之间调节所述图案化膜层的参数，并在所述图案化膜层的参数与参考膜层的参数相同时停止调节，调节参数后的图案化膜层与所述待测膜层共同构成目标薄膜。

3.根据权利要求2所述的测试方法，其特征在于，所述根据所述第二光谱确定所述待测膜层的厚度，包括：

根据所述第二光谱的峰值确定所述待测膜层的厚度。

4.根据权利要求1-3任一项所述的测试方法，其特征在于，所述参数包括膜层的厚度、粗糙度、密度、声波传输速度、介电常数、热容量及导热性中至少一种。

5.一种薄膜厚度的测试系统，所述薄膜包括图案化膜层和位于所述图案化膜层表面的待测膜层，所述图案化膜层包括多层堆叠分布的子膜层，各所述子膜层中至少有两层所述子膜层相互交叉，且在平行于所述待测膜层的方向上互不分离，其特征在于，所述测试系统包括：

第一检测组件，用于收集第一光谱，以得到所述图案化膜层的参数；

参数调节组件，用于调节所述第一光谱中所述图案化膜层的参数，并锁定所述图案化膜层的参数，以形成目标薄膜；

第二检测组件，用于检测所述目标薄膜的光谱，得到第二光谱；

参数确定组件，根据所述第二光谱确定所述待测膜层的厚度；

模型构建组件，用于形成参考薄膜，所述参考薄膜包括参考膜层和位于所述参考膜层表面的待测试膜层，所述参考膜层包括多个子材料层，各所述子材料层均与所述待测试膜层平行分布；所述子材料层的数量与所述子膜层的数量相等，且各所述子材料层的材料与各所述子膜层的材料一一对应相同；

第三检测组件，用于收集第三光谱，以得到所述参考膜层的参数；

所述参数调节组件用于根据所述参考膜层的参数调节所述第一光谱中所述图案化膜层的参数，以使所述图案化膜层的参数与所述参考膜层的参数一致。

6.根据权利要求5所述的测试系统，其特征在于，所述参数调节组件包括：

参数获取模块，用于根据所述薄膜的制程信息确定各所述子膜层的材料对应的参数，在相互交叉的两层子膜层中，一所述子膜层的参数为第一参数，另一所述子膜层的参数为第二参数；

调节模块，用于在所述第一参数和所述第二参数之间调节所述图案化膜层的参数，并在所述图案化膜层的参数与参考膜层的参数相同时停止调节，调节参数后的图案化膜层与所述待测膜层共同构成目标薄膜。

7.根据权利要求6所述的测试系统，其特征在于，所述参数确定组件用于根据所述第二光谱的峰值确定所述待测膜层的厚度。