[发明专利]接合设备及接合方法在审
申请号: | 202110164245.8 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN113314436A | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 泷泽正晴 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 杨林勳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接合 设备 方法 | ||
本发明的实施例涉及一种接合设备及一种接合方法。根据本发明实施例的接合设备包含第一固持器及第二固持器。所述第一固持器固持第一衬底。所述第二固持器包含吸取第二衬底且围绕所述第二衬底的中心基本上均匀地布置于同心圆上的多个吸取部分。所述第二固持器将所述第二衬底接合到所述第一衬底,同时使所述第二衬底与所述第一衬底相对。第一气体供应部分具有多个第一气体供应端口以朝向所述第一衬底与所述第二衬底之间的接合位置供应气体。所述第一气体供应端口经提供以对应于作为所述吸取部分中最远离所述第二固持器的中心的吸取部分的最外吸取部分的至少一部分,且围绕所述中心基本上均匀地同心布置于一圆上。
本申请案是基于且主张来自2020年2月27日申请的第2020-31865号现有日本专利申请案的优先权权益,所述日本专利申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。
技术领域
本发明的实施例涉及一种接合设备及一种接合方法。
背景技术
已知一种通过分子间力使半导体衬底彼此接合的设备。此接合设备固持上衬底且通过撞针下压上衬底的中心以使其与下衬底的中心接触。此后,上衬底从其中心到其外圆周部分接合到下衬底,使得接合面积扩大。因此,上衬底与下衬底最终彼此完全接合。
然而,当上衬底的外边缘部分经接合到下衬底时,上衬底的外边缘部分与下衬底的外边缘部分之间的气体使高压状态突然转变到低压状态且产生绝热膨胀。当气体中所含的湿气由于气体的绝热膨胀而冷凝时,会在上衬底的外边缘部分与下衬底的外边缘部分之间产生空隙。这些空隙导致不良接合,从而导致可靠性降低。
发明内容
根据本实施例的接合设备包含第一固持器及第二固持器。所述第一固持器固持第一衬底。所述第二固持器包含吸取第二衬底且围绕所述第二衬底的中心基本上均匀地布置于同心圆上的多个吸取部分。所述第二固持器将所述第二衬底接合到所述第一衬底,同时使所述第二衬底与所述第一衬底相对。第一气体供应部分具有多个第一气体供应端口以朝向所述第一衬底与所述第二衬底之间的接合位置供应气体。所述第一气体供应端口经提供以对应于作为所述吸取部分中最远离所述第二固持器的中心的吸取部分的最外吸取部分的至少一部分,且围绕所述第二固持器的所述中心基本上均匀地同心布置于一圆上。
根据实施例,可防止在半导体晶片之间的接合表面处冷凝及产生空隙。
附图说明
图1是说明根据第一实施例的接合设备的配置实例的横截面图;
图2是说明固持器及气体供应部分的配置实例的透视图;
图3A到3F是说明使半导体晶片彼此接合的方法的实例的横截面图;
图4A到4D是说明接合过程中的固持器及半导体晶片的平面图;
图5A及5B是说明半导体晶片彼此接合时的固持器的端部及气体供应部分的横截面图;
图6是说明根据本实施例的紧接在接合在一起之前的半导体晶片的横截面图;
图7A及7B是说明管及类似物的配置及功能的实例的横截面图;
图8是说明根据第一实施例的第一修改的接合设备的配置实例的平面图;
图9是说明根据第一实施例的第二修改的接合设备的配置实例的平面图;
图10是说明根据第一实施例的第三修改的接合设备的配置实例的平面图;
图11是说明根据第一实施例的第四修改的接合设备的配置实例的平面图;
图12是说明根据第二实施例的接合设备的配置实例的平面图;及
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造