[发明专利]一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺

权利要求书

1.一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，包括真空仓，所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊，所述放卷辊上设置有植珠膜，所述收卷辊的一端部设置有收卷电机，所述真空仓的外部设置有抽真空系统，所述抽真空系统与真空仓相连通，所述真空仓中设置有主鼓，所述主鼓的一端部设置有控制电机，所述主鼓的中空内腔连接有冷却系统，所述植珠膜依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上，其特征在于，所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室，所述主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中，位于所述主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有坩埚蒸发装置；

其中，所述坩埚蒸发装置包括容置槽，所述容置槽中设置有若干排坩埚，每排所述坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直，每排所述坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置，每个所述坩埚中均放置有蒸镀靶材，在每个所述坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈，所述螺旋式感应加热线圈的两端连接有电源线。

2.根据权利要求1所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，每个所述坩埚的上端设置有导流罩，所述导流罩的下端呈与圆柱形且与坩埚的上端相配合，所述导流罩的上端的两侧向中间靠拢设置，且在导流罩的上端面开设有条形口，所述条形口的方向与植株膜的牵引方向相垂直。

3.根据权利要求1或2所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述容置槽中设置的坩埚为2排，且每排坩埚的数量设置有2~4个，其中一排所述导流罩上开设的条形口两端部与另一排导流罩上开设的条形口端部处于沿植株膜牵引方向上的同一直线上。

4.根据权利要求3所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述容置槽中还填充有耐高温玻璃纤维布。

5.根据权利要求3所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚和导流罩由均石墨或氮化硼材料制成。

6.根据权利要求3所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀靶材为块状、颗粒状或粉末状其中的一种。

7.根据权利要求3所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述抽真空系统包括设置在真空仓外部的机械泵和扩散泵，所述机械泵和扩散泵上均连接有真空管，所述真空管上设置有阀门，所述真空管的端部与真空仓相连接通。

8.根据权利要求3所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，其特征在于，所述冷却系统为氟利昂强制制冷系统，所述氟利昂强制制冷系统通过管路与主鼓的中空内腔相连接。

9.一种使用权利要求1~8任一所述的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备进行的镀膜工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1：打开真空仓将植珠膜装在放卷辊上，并将植珠膜依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上，同时启动冷却系统对主鼓进行降温冷却；

S2：合上真空仓保证真空仓处于密封状态，再启动抽真空系统将真空仓内部抽至负压值为1.3×10⁰至1.3×10^-4Pa的状态；

S3：将坩埚蒸发装置中的每个螺旋式感应加热线圈通电，从而对坩埚进行加热，坩埚温度升高后对内部的蒸镀靶材进行加热使其蒸发；

S4：待坩埚内部的温度加热均匀后，启动收卷电机，使得植珠膜在收卷辊的牵引下通过蒸镀室，并且植珠膜绕在主鼓的鼓面上，同时坩埚中产生汽化的蒸镀靶材向上运动进行镀膜，直至完成整个植珠膜的牵引镀膜过程；

S5：待整个植珠膜的牵引镀膜完成后，关闭收卷电机、控制电机和主动辊，再关闭蒸发源和加热装置，最后关闭抽真空系统，待真空仓内的温度恢复至室温时打开真空仓取料即可。

10.根据权利要求9所述的镀膜工艺，其特征在于，所述蒸镀靶材为硫化锌、氟化镁、氧化锡、二氧化硅、五氧化二钽、纯铝、纯银、纯金、黄铜或紫铜其中的一种。