[发明专利]一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺

说明书

本发明涉及植珠膜真空蒸镀技术领域，具体涉及一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺；包括真空仓真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊，放卷辊上设置有植珠膜，真空仓的内腔下端设置有蒸镀室，主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中，位于主鼓正下方的蒸镀室中有坩埚蒸发装置，坩埚蒸发装置包括容置槽，容置槽中设置有若干排坩埚，每排坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直，每排坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置，坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈；本发明能够保证镀在植株膜面上的镀层厚度更加均匀，有效解决了现有真空蒸镀设备无法适用于植株膜高质量镀膜的不足，同时有效降低了植珠膜镀膜过程中的原料浪费。

技术领域

本发明涉及植珠膜真空蒸镀技术领域，具体涉及一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺。

背景技术

在真空环境下将靶材加热升华并镀到基材表面的过程称为真空镀膜。植珠膜真空镀膜顾名思义是在真空环境下将靶材（如硫化锌）加热升华镀到植珠膜的植株面，然后通过真空镀层使得植珠膜达到增亮或者具有幻彩膜面的效果。

传统的真空蒸镀设备是利用钼舟对靶材（如硫化锌）进行加热，但是使用钼舟对靶材进行加热蒸发时存在以下弊端：其一，由于靶材的形状一般均是呈长方体形，在使用过程将其有规则的摆放在钼舟中，而钼舟在通电过程中其内表面会存在较大的温度差，从而导致靶材受热不均匀，靶材在受热不均匀的情况下会导致蒸镀在膜面上的镀层厚度不均匀，更加无法对镀层厚度进行有效控制，而植珠膜表面镀层的厚度不均匀严重影响了其产品的效果，其传统的钼舟加热方式无法适用于植珠膜的真空蒸镀；其二，由于使用钼舟对靶材进行加热蒸发时其靶材的下表面与钼舟的底壁相接触，从而导致靶材与钼舟的接触面先升华，当靶材的下表面先升华一段时间后导致其下表面不再水平，容易使得发生倾斜，而在真空蒸镀过程中一个钼舟中规则摆放有多个靶材，当其中一个靶材发生倾斜时需要更换整个钼舟中所有的靶材，从而造成了原料的极大浪费。因此，针对现有使用钼舟对靶材进行加热蒸发的真空蒸镀设备的上述不足，设计一种能够解决现有真空蒸镀设备无法有效控制镀层均匀，使其无法适用于植珠膜的真空蒸镀过程、且容易造成靶材原料浪费的以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备是一项有待解决的技术问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有真空蒸镀设备无法有效控制镀层均匀，使其无法适用于植珠膜的真空蒸镀过程、且容易造成靶材原料浪费的问题，设计一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备，包括真空仓，所述真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊，所述放卷辊上设置有植珠膜，所述收卷辊的一端部设置有收卷电机，所述真空仓的外部设置有抽真空系统，所述抽真空系统与真空仓相连通，所述真空仓中设置有主鼓，所述主鼓的一端部设置有控制电机，所述主鼓的中空内腔连接有冷却系统，所述植珠膜依次经导向辊、主鼓、导向辊收卷到收卷辊上，所述真空仓的内腔下端设置有蒸镀室，所述主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中，位于所述主鼓正下方的蒸镀室底壁上设置有坩埚蒸发装置；

其中，所述坩埚蒸发装置包括容置槽，所述容置槽中设置有若干排坩埚，每排所述坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直，每排所述坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置，每个所述坩埚中均放置有蒸镀靶材，在每个所述坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈，所述螺旋式感应加热线圈的两端连接有电源线。

作为上述方案的进一步设置，每个所述坩埚的上端设置有导流罩，所述导流罩的下端呈与圆柱形且与坩埚的上端相配合，所述导流罩的上端的两侧向中间靠拢设置，且在导流罩的上端面开设有条形口，所述条形口的方向与植株膜的牵引方向相垂直。

作为上述方案的进一步设置，所述容置槽中设置的坩埚为2排，且每排坩埚的数量设置有2~4个，其中一排所述导流罩上开设的条形口两端部与另一排导流罩上开设的条形口端部处于沿植株膜牵引方向上的同一直线上。