[发明专利]一种(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体及其制备方法有效
申请号: | 202110168120.2 | 申请日: | 2021-02-07 |
公开(公告)号: | CN113004047B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 战再吉;程庭信;曹海要 | 申请(专利权)人: | 燕山大学 |
主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/626;C04B35/645 |
代理公司: | 石家庄众志华清知识产权事务所(特殊普通合伙) 13123 | 代理人: | 张明月 |
地址: | 066004 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 crzrtinbv 陶瓷 块体 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及一种(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体及其制备方法,属于高熵化合物材料制备技术领域,所述高熵陶瓷块体为单相面心立方结构的陶瓷,包括以下摩尔比的氮化物:18%~22%的CrN、18%~22%的VN、18%~22%的NbN、18%~22%的TiN、其余为ZrN;所述制备方法包括三个步骤:预合金化陶瓷粉体的制备、高熵陶瓷粉体的制备和高熵陶瓷块体的制备。本发明有效地降低了烧结温度,实现了(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体的热压烧结,得到具有单相面心立方(FCC)结构的高熵陶瓷,丰富了陶瓷材料体系,制备的高熵陶瓷块体晶粒细小,断裂韧性相比于原料粉体有了显著的提升。
技术领域
本发明涉及一种(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体及其制备方法,属于高熵化合物材料制备技术领域。
背景技术
高熵陶瓷是最近出现的一种新型陶瓷,该种陶瓷的出现丰富了陶瓷体系。20世纪90年代末中国台湾清华大学叶均蔚教授提出了高熵的概念,并将其定义为元素种类≥5,没有主导元素,并且所有元素的含量在5%~35%之间。高熵陶瓷粉体经过烧结可获得稳定的固溶相。到目前为止,人们关于高熵的研究主要集中在合金领域,对于高熵陶瓷的研究较少,而高熵陶瓷具有高热导、高熔点、较好的耐蚀性、良好的生物相容性以及良好的电化学性能等,在超高温、生物医学和能源等领域具有较大发展潜力。
由于高熵陶瓷研究较少,关于高熵陶瓷的的制备方法仍处于探索阶段,文献“Anew class of high-entropy perovskite oxides[J].Scripta Materialia 2018,104:116-120.”采用球磨法结合热处理制备氧化物高熵陶瓷,但其致密度较低。文献“Multicomponent equiatomic rare earth oxides[J].2017,5:102-109.”采用喷雾造粒的方法制备均匀性较好的氧化物高熵陶瓷,但该方法所用原料为硝酸盐,存在一定危险性,且制备产量较低,因此应用受到限制。由于氮化物在空气中容易氧化,所以无法直接采用上述两种方法。
发明内容
本发明的目的是提供一种(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体及其制备方法,制备(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷粉体和高熵陶瓷块体,该制备方法能够显著降低高熵陶瓷的烧结温度,在1200~1550℃温度范围内实现陶瓷的烧结。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是:
一种(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体,所述高熵陶瓷块体为单相面心立方结构的陶瓷,包括以下摩尔比的氮化物:18%~22%的CrN、18%~22%的VN、18%~22%的NbN、18%~22%的TiN、其余为ZrN。
一种(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体的制备方法,包括以下步骤:
(1)预合金化陶瓷粉体的制备:在氩气保护氛围下,称取等摩尔比的CrN、ZrN、NbN、TiN、VN五种粉末,加入一定量的酒精,将粉末进行球磨,得到成分均匀的纳米尺寸的陶瓷粉末混合物;
(2)高熵陶瓷粉体的制备:真空条件下,将步骤(1)得到的纳米尺寸的陶瓷粉末混合物进行热处理,热处理后再进行退火处理,得到具有超细晶的(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷粉体;
(3)高熵陶瓷块体的制备:将步骤(2)制备的超细晶的(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷粉体在氩气保护氛围下装入石墨模具中,在真空热压炉中进行烧结,得到(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体。
本发明技术方案的进一步改进在于:所述步骤(1)的球磨转速为220~260r/min,球磨时间为30h~40h,球料比为10:1。
本发明技术方案的进一步改进在于:所述步骤(1)中五种粉末的总质量与酒精的体积比为25:2。
本发明技术方案的进一步改进在于:所述步骤(2)的热处理温度为700~900℃,热处理时间为0.5~1h。
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