[发明专利]一种转移装置及转移方法有效

专利信息
申请号: 202110171752.4 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN112992765B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 江方;吴双;冯妍雪;柯志杰;艾国齐 申请(专利权)人: 厦门乾照半导体科技有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/67
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 姚璐华
地址: 361100 福建省厦门市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 转移 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种转移装置,其特征在于,所述转移装置用于转移弱化结构芯片,所述弱化结构芯片包括:

芯片本体,所述芯片本体具有第一电极和第二电极;

与所述第一电极连接的第一导电链条,以及与所述第二电极连接的第二导电链条;

所述转移装置包括:

基底;

设置在所述基底上的多个独立的转移头;

每个所述转移头上均具有第一接触电极和第二接触电极;

与所述第一接触电极连接的第一电磁体,以及与所述第二接触电极连接的第二电磁体;

其中,在对所述弱化结构芯片进行转移时,所述第一接触电极与所述第一导电链条对位连接,所述第二接触电极与所述第二导电链条对位连接,对所述第一接触电极和所述第二接触电极施加电压,所述第一电磁体和所述第二电磁体产生磁性,以抓取所述弱化结构芯片并转移至对接基板;

在所述弱化结构芯片与所述对接基板上的指定位置对位后,停止对所述第一接触电极和所述第二接触电极施加电压,以将所述转移头与所述弱化结构芯片进行分离。

2.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,

所述第一接触电极的形状为条状,所述条状的延伸方向垂直于所述基底所在的平面;

所述第一接触电极贯穿所述基底以及所述转移头;

所述第二接触电极的形状为条状,所述条状的延伸方向垂直于所述基底所在的平面;

所述第二接触电极贯穿所述基底以及所述转移头。

3.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,所述弱化结构芯片还包括:

设置在所述第一导电链条和所述芯片本体,以及设置在所述第二导电链条和所述芯片本体之间的绝缘保护层。

4.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,所述第一导电链条和所述第二导电链条的材料相同。

5.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,所述第一导电链条的材料为金属材料;

所述第二导电链条的材料为金属材料。

6.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,所述多个独立的转移头在所述基底上阵列排布。

7.根据权利要求6所述的转移装置,其特征在于,在所述阵列排布的行方向上,相邻两个所述转移头之间的间距相等。

8.根据权利要求6所述的转移装置,其特征在于,在所述阵列排布的列方向上,相邻两个所述转移头之间的间距相等。

9.根据权利要求6所述的转移装置,其特征在于,相邻两个所述转移头之间的间距为1um-500um。

10.一种转移方法,其特征在于,所述转移方法应用于权利要求1-9任一项所述的转移装置;

所述转移方法包括:

对所述转移装置的位置进行控制,以使所述第一接触电极与所述第一导电链条对位连接,所述第二接触电极与所述第二导电链条对位连接;

对所述第一接触电极和所述第二接触电极施加电压,所述第一电磁体和所述第二电磁体产生磁性,以抓取所述弱化结构芯片并转移至对接基板;

在所述弱化结构芯片与所述对接基板上的指定位置对位后,停止对所述第一接触电极和所述第二接触电极施加电压,以将所述转移头与所述弱化结构芯片进行分离。

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