[发明专利]一种转移装置及转移方法有效
申请号: | 202110171752.4 | 申请日: | 2021-02-08 |
公开(公告)号: | CN112992765B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 江方;吴双;冯妍雪;柯志杰;艾国齐 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 姚璐华 |
地址: | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 转移 装置 方法 | ||
1.一种转移装置,其特征在于,所述转移装置用于转移弱化结构芯片,所述弱化结构芯片包括:
芯片本体,所述芯片本体具有第一电极和第二电极;
与所述第一电极连接的第一导电链条,以及与所述第二电极连接的第二导电链条;
所述转移装置包括:
基底;
设置在所述基底上的多个独立的转移头;
每个所述转移头上均具有第一接触电极和第二接触电极;
与所述第一接触电极连接的第一电磁体,以及与所述第二接触电极连接的第二电磁体;
其中,在对所述弱化结构芯片进行转移时,所述第一接触电极与所述第一导电链条对位连接,所述第二接触电极与所述第二导电链条对位连接,对所述第一接触电极和所述第二接触电极施加电压,所述第一电磁体和所述第二电磁体产生磁性,以抓取所述弱化结构芯片并转移至对接基板;
在所述弱化结构芯片与所述对接基板上的指定位置对位后,停止对所述第一接触电极和所述第二接触电极施加电压,以将所述转移头与所述弱化结构芯片进行分离。
2.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,
所述第一接触电极的形状为条状,所述条状的延伸方向垂直于所述基底所在的平面;
所述第一接触电极贯穿所述基底以及所述转移头;
所述第二接触电极的形状为条状,所述条状的延伸方向垂直于所述基底所在的平面;
所述第二接触电极贯穿所述基底以及所述转移头。
3.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,所述弱化结构芯片还包括:
设置在所述第一导电链条和所述芯片本体,以及设置在所述第二导电链条和所述芯片本体之间的绝缘保护层。
4.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,所述第一导电链条和所述第二导电链条的材料相同。
5.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,所述第一导电链条的材料为金属材料;
所述第二导电链条的材料为金属材料。
6.根据权利要求1所述的转移装置,其特征在于,所述多个独立的转移头在所述基底上阵列排布。
7.根据权利要求6所述的转移装置,其特征在于,在所述阵列排布的行方向上,相邻两个所述转移头之间的间距相等。
8.根据权利要求6所述的转移装置,其特征在于,在所述阵列排布的列方向上,相邻两个所述转移头之间的间距相等。
9.根据权利要求6所述的转移装置,其特征在于,相邻两个所述转移头之间的间距为1um-500um。
10.一种转移方法,其特征在于,所述转移方法应用于权利要求1-9任一项所述的转移装置;
所述转移方法包括:
对所述转移装置的位置进行控制,以使所述第一接触电极与所述第一导电链条对位连接,所述第二接触电极与所述第二导电链条对位连接;
对所述第一接触电极和所述第二接触电极施加电压,所述第一电磁体和所述第二电磁体产生磁性,以抓取所述弱化结构芯片并转移至对接基板;
在所述弱化结构芯片与所述对接基板上的指定位置对位后,停止对所述第一接触电极和所述第二接触电极施加电压,以将所述转移头与所述弱化结构芯片进行分离。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造