[发明专利]设置清洁禁区的方法、装置、清洁设备及存储介质在审
申请号: | 202110177573.1 | 申请日: | 2021-02-08 |
公开(公告)号: | CN112890692A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 丁铁 | 申请(专利权)人: | 美智纵横科技有限责任公司 |
主分类号: | A47L11/24 | 分类号: | A47L11/24;A47L11/40;G06F16/29 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 尹倩倩 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 设置 清洁 禁区 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
1.一种设置清洁禁区的方法,其特征在于,包括:
对清洁设备的工作场所进行建图,得到所述工作场所对应的清洁地图;
在所述清洁地图中定位出基站所在区域;
根据所述基站所在区域,设置覆盖所述基站的清洁禁区。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述清洁地图中定位出基站所在区域,包括:
与基站建立通信连接;
从所述基站获取所述基站的安装位置信息及尺寸信息;
根据所述安装位置信息,在所述清洁地图中确定出所述基站的安装位置;
根据所述尺寸信息,在所述清洁地图上所述安装位置处绘制出所述基站的轮廓;
将所述基站的轮廓覆盖的区域确定为基站所在区域。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述清洁地图中定位出基站所在区域,包括:
接收用户终端发送的清洁禁区设置指令,所述清洁禁区设置指令包括基站的安装位置信息及尺寸信息;
根据所述尺寸信息和所述安装位置信息,在所述清洁地图上所述基站对应的安装位置处绘制出所述基站的轮廓;
将所述基站的轮廓覆盖的区域确定为基站所在区域。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述基站所在区域,设置覆盖所述基站的清洁禁区,包括:
在所述清洁地图中将所述基站所在区域放大预设比例,将放大后的区域设置为清洁禁区;或者,
在所述清洁地图中将所述基站所在区域的各个边界所在的直线向外移动预设距离,将移动后各边界所在直线围成的区域设置为清洁禁区。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
接收用户终端发送的清洁禁区调整指令,所述清洁禁区调整指令包括调整位置信息和调整尺寸信息;
根据所述调整位置信息和所述调整尺寸信息,调整所述清洁禁区的大小。
6.根据权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
确定所述清洁设备需要返回所述基站,删除所述清洁地图上设置的所述清洁禁区。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
确定所述清洁设备离开所述基站,重新在所述清洁地图上设置所述清洁禁区。
8.一种设置清洁禁区的装置,其特征在于,包括:
建图模块,用于对清洁设备的工作场所进行建图,得到所述工作场所对应的清洁地图;
基站定位模块,用于在所述清洁地图中定位出基站所在区域;
禁区设置模块,用于根据所述基站所在区域,设置覆盖所述基站的清洁禁区。
9.一种清洁设备,包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器运行所述计算机程序以实现如权利要求1-7任一项所述的方法。
10.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述程序被处理器执行实现如权利要求1-7中任一项所述的方法。
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